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龙图腾网获悉江苏超芯星半导体有限公司申请的专利一种粉料清洗的装置、粉料清洗方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116786511B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310737345.4，技术领域涉及：B08B3/12；该发明授权一种粉料清洗的装置、粉料清洗方法与应用是由张永伟;袁振洲;汝慧慧;王子杰;刘欣宇设计研发完成，并于2023-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种粉料清洗的装置、粉料清洗方法与应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种粉料清洗的装置、粉料清洗方法与应用，所述装置包括壳体，壳体内为流动清洗腔，沿壳体的顶部到底部的方向，流动清洗腔内设置有至少一层镂空支撑板，每层镂空支撑板上设置有至少一个物料容纳器，物料容纳器的底部和或侧面上设置有至少一个漏孔，物料容纳器用于容纳待洗粉料；所述装置还包括液体循环组件，液体循环组件分别与壳体顶部设置的液体进口及所述壳体底部设置的进出口连通，壳体的侧壁上还设置有与所述液体循环组件连通的液体出口，液体出口位于邻近所述壳体顶部的镂空支撑板的上方。所述装置对粉料清洗的耗时短，对酸液与水的消耗量较小，使用成本较低，且能较为彻底地去除碳化硅粉料表面的金属与酸液。

本发明授权一种粉料清洗的装置、粉料清洗方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种粉料清洗方法，其特征在于，所述粉料清洗方法采用粉料清洗的装置进行，所述装置包括壳体，所述壳体内为流动清洗腔，沿所述壳体的顶部到底部的方向，所述流动清洗腔内设置有至少一层镂空支撑板，每层所述镂空支撑板上设置有至少一个物料容纳器，所述物料容纳器的底部和或侧面上设置有至少一个漏孔，所述物料容纳器用于容纳待洗粉料； 所述装置还包括液体循环组件，所述液体循环组件分别与所述壳体顶部设置的液体进口及所述壳体底部设置的进出口连通，所述壳体的侧壁上还设置有与所述液体循环组件连通的液体出口，所述液体出口位于邻近所述壳体顶部的镂空支撑板的上方； 所述粉料清洗方法包括以下步骤： 1进行1~10次第一水洗，所述第一水洗包括：液体循环组件控制水通过液体进口注入流动清洗腔，水沿壳体的顶部到底部的方向，依次流入每层镂空支撑板上设置的物料容纳器，从每层所述物料容纳器的底部和或侧面上设置的漏孔流出，再穿过每层所述镂空支撑板，直至流动清洗腔内的水液面高于邻近所述壳体顶部的物料容纳器中的待洗粉料表面后停止水的注入，静置1~60min后，液体循环组件控制水由进出口流出后排出； 2静置酸洗，所述静置酸洗包括：储酸器内的酸液通过液体进口注入流动清洗腔，酸液沿壳体的顶部到底部的方向，依次流入每层镂空支撑板上设置的物料容纳器，从每层所述物料容纳器的底部和或侧面上设置的漏孔流出，再穿过每层所述镂空支撑板，直至流动清洗腔内的酸液液面高于液体出口处对应的壳体内壁时停止酸液的注入，静置1~48h； 3循环酸洗，所述循环酸洗包括：液体循环组件控制流动清洗腔内的酸液通过液体出口流出所述壳体，经过液体循环组件后由进出口进入壳体，酸液沿壳体的底部到顶部的方向，依次流入每层镂空支撑板上设置的物料容纳器，再从每层所述物料容纳器顶部的开口流出，再穿过每层物料容纳器上方的所述镂空支撑板，最终由液体出口流出壳体，实现所述循环酸洗，所述循环酸洗进行1~50h； 4超声循环酸洗，所述超声循环酸洗包括：保持循环酸洗的同时，打开加热器进行第一加热处理，所述第一加热处理的温度为40~80℃，所述第一加热处理伴随整个所述超声循环酸洗过程；打开超声器进行1~10次第一循环超声，所述第一循环超声包括依次进行的5~180min的第一超声处理与5~600min的第一静置处理；超声循环酸洗后液体循环组件控制酸液由进出口流出后排出； 5进行1~5次第二水洗，所述第二水洗包括：液体循环组件控制水通过液体进口注入流动清洗腔，水沿壳体的顶部到底部的方向，依次流入每层镂空支撑板上设置的物料容纳器，从每层所述物料容纳器的底部和或侧面上设置的漏孔流出，再穿过每层所述镂空支撑板，直至流动清洗腔内的水液面高于邻近所述壳体顶部的物料容纳器中的待洗粉料表面后停止水的注入，静置1~60min后，液体循环组件控制水由进出口流出后排出； 6进行1~200min的流动水洗，所述流动水洗包括：液体循环组件控制流动清洗腔内的水通过液体出口流出所述壳体，经过液体循环组件后由进出口进入壳体，水沿壳体的底部到顶部的方向，依次流入每层镂空支撑板上设置的物料容纳器，再从每层所述物料容纳器顶部的开口流出，再穿过每层物料容纳器上方的所述镂空支撑板，最终由液体出口流出壳体，实现所述流动水洗； 7超声流动水洗，所述超声流动水洗包括：保持流动水洗的同时，打开加热器进行第二加热处理，所述第二加热处理的温度为40~80℃，所述第二加热处理伴随整个所述超声流动水洗过程；打开超声器进行1~10次的第二循环超声，所述第二循环超声包括依次进行的5~60min的第二超声处理与5~20min的第二静置处理；超声流动水洗后液体循环组件控制水由进出口流出后排出。

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