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龙图腾网获悉安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司申请的专利降低晶圆表面金属残留的清洗设备及12寸晶圆上的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118588610B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410858011.7，技术领域涉及：H01L21/673；该发明授权降低晶圆表面金属残留的清洗设备及12寸晶圆上的应用是由肖飞;张德海;孙臣;冯校亮设计研发完成，并于2024-06-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本降低晶圆表面金属残留的清洗设备及12寸晶圆上的应用在说明书摘要公布了：本发明提供降低晶圆表面金属残留的清洗设备及12寸晶圆上的应用，包括清洗池以及用于转运内置晶圆片盒的转运装置，所述转运装置包括第一承载主体，所述第一承载主体内壁转动连接有第二承载主体，所述片盒设置于第二承载主体表面，所述第二承载主体外侧安装有限位承载装置，所述限位承载装置包括两个承载杆，所述承载杆沿着所述片盒长度方向延伸，所述限位承载装置还包括控制两个承载杆间距的第一调节组件以及控制两个承载杆与片盒间距的第二调节组件。该发明能够对不同尺寸大小的晶圆进行适应性调整，提高了晶圆批量清洁的效率以及质量。

本发明授权降低晶圆表面金属残留的清洗设备及12寸晶圆上的应用在权利要求书中公布了：1.降低晶圆表面金属残留的清洗设备，包括清洗池100以及用于转运内置晶圆200片盒300的转运装置，其特征在于： 所述转运装置包括第一承载主体400，所述第一承载主体400内壁转动连接有第二承载主体500，所述片盒300设置于第二承载主体500表面，所述第二承载主体500外侧安装有限位承载装置600，所述限位承载装置600包括两个承载杆620，所述承载杆620沿着所述片盒300长度方向延伸，所述限位承载装置600还包括控制两个承载杆620间距的第一调节组件630以及控制两个承载杆620与片盒300间距的第二调节组件640，根据晶圆200尺寸大小调节两个承载杆620间距完成对晶圆200顶部的承载限位； 所述第二承载主体500下方设置有液力清洁装置700，控制所述液力清洁装置700伸入片盒300底部对晶圆200进行限位并且对片盒300内壁进行清洁； 所述液力清洁装置700包括清洁承载板710，所述清洁承载板710上端固定有与片盒300适配的液力清洁组件720，所述清洁承载板710与第二承载主体500之间安装有第三调节组件730。

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