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龙图腾网获悉浙江大学;浙江创芯集成电路有限公司申请的专利一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118707809B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410952094.6，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法是由郑超怡;周国栋;黄烈杰;黄天昊;杨佳斐;倪东;高大为设计研发完成，并于2024-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法。本发明在光刻胶旋涂过程中加入超声波辅助，超声波能够产生高频振动提供外部能量，并传递给液体溶液，将涂层材料的大液滴局部分解成微小的液滴，帮助它们注入基材上存在的小孔隙中，还可以通过液体内部的微流动，有效消除涂胶液体中的气泡、流动层和结块，使涂胶液体均匀分布。这样可以获得更均匀的涂层，减少涂层厚度的变异性，提高涂层品质。超声波的能量作用可以将光刻胶材料的大液滴局部分解成微小的液滴使涂胶液体在旋涂过程中更容易渗透到被涂物表面和细小缝隙中，提高涂覆的覆盖率，而且加速涂胶液体的渗透和扩散过程，使涂覆速度增加，从而提高涂装效率。

本发明授权一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法在权利要求书中公布了：1.一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法，其特征在于所述方法包括以下步骤： 步骤S1：晶圆预处理； 步骤S2：滴加光刻胶； 步骤S3：超声波辅助旋转匀胶 S3-1：将超声波振动器置于距离晶圆上表面中心λ2处，其中λ为超声波波长； S3-2：打开超声波振动器，产生超声波照射光刻胶，同时将步骤S2已完成光刻胶滴加的晶圆的转速提高，并保持匀速旋转，利用超声波振动将光刻胶材料的大液滴局部分解成微小的液滴，并在离心力的作用下渗透到基底上的狭窄区域，同时晶圆的旋转使其扩展成为均匀的薄膜； S3-3：调整超声波振动器朝向，使超声波与初步扩散完成的光刻胶薄膜平行，此时超声波振动器产生的行波传播方向与光刻胶的运动方向垂直，将步骤S3-2中的晶圆转速继续提高，并保持匀速旋转，利用超声波的辐射力推动光刻胶表面，帮助光刻胶形成更加平整的薄膜； S3-4：关闭超声波振动器，晶圆继续保持转速匀速旋转，利用匀速旋转持续蒸发光刻胶中的剩余溶剂，使光刻胶减薄且更加牢固； 步骤S4：晶圆边缘与背面冲洗； 步骤S6：后处理。

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