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龙图腾网获悉武汉百臻半导体科技有限公司申请的专利用于硅片清洗机的可定位支撑设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118751644B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410940043.1，技术领域涉及：B08B13/00；该发明授权用于硅片清洗机的可定位支撑设备是由王青松;肖真方设计研发完成，并于2024-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于硅片清洗机的可定位支撑设备在说明书摘要公布了：本发明公开了用于硅片清洗机的可定位支撑设备，具体涉及硅片清洗机技术领域，包括支撑座和清洗机体，所述清洗机体设在支撑座上，所述支撑座上的前后两侧均开设有放置槽，所述放置槽内设有移动清理装置，所述移动清理装置滑动设在放置槽内。本发明通过设置驱动组件、往复丝杆、螺纹帽、挤压连接柱、移动框、导向孔、清理环和清理刷，移动杆和清理刷移动时对清洗机体侧面粘附的清洗剂进行擦拭清理，挤压连接柱进入导向孔时会控制移动框和清理环向下移动，实现控制清理环对支撑腿侧面粘附的清洗剂的擦拭清理，自动实现对清洗机体和支撑腿侧面的清理，避免清洗剂长时间对其造成腐蚀的情况，在一定程度上保证其正常使用寿命。

本发明授权用于硅片清洗机的可定位支撑设备在权利要求书中公布了：1.用于硅片清洗机的可定位支撑设备，包括支撑座1和清洗机体2，其特征在于：所述清洗机体2设在支撑座1上，所述支撑座1上的前后两侧均开设有放置槽3，所述放置槽3内设有移动清理装置4，所述移动清理装置4滑动设在放置槽3内，所述移动清理装置4设在清洗机体2外，所述支撑座1下连接有四个支撑腿6，所述支撑腿6外套设有活动清理装置5，其中两个活动清理装置5滑动设在移动清理装置4外，所述活动清理装置5安装在清洗机体2外，所述支撑座1上开设有圆槽7，所述圆槽7内滑动设有圆柱8，所述圆柱8的顶端与清洗机体2连接，所述支撑座1上开设有导向槽9，所述导向槽9内滑动设有导向块10，所述导向块10连接在清洗机体2下，所述支撑座1上开设有两个连接槽12，所述连接槽12内滑动设有移动连接装置14，所述清洗机体2下开设有滑动槽13，所述移动连接装置14滑动设在滑动槽13内； 所述移动清理装置4包括驱动组件41，所述驱动组件41连接在放置槽3内，所述驱动组件41的输出轴连接有往复丝杆42，所述往复丝杆42外螺纹连接有螺纹帽43，所述螺纹帽43外连接有滑动座44，所述滑动座44滑动设在放置槽3内，所述往复丝杆42的另一端连接有限位板48，所述滑动座44远离圆槽7的一侧连接有挤压连接柱45，所述挤压连接柱45连接在活动清理装置5内，所述挤压连接柱45的另一端连接有移动杆46，所述移动杆46靠近清洗机体2的一侧连接有清理刷47，所述清理刷47设在清洗机体2外，所述挤压连接柱45设为圆柱形； 所述活动清理装置5包括移动框501，所述移动框501的正面开设有导向孔502，所述挤压连接柱45滑动设在导向孔502内，所述导向孔502由倾斜段和水平段组成，所述移动框501的侧面连接有延伸块503，所述延伸块503上贯穿设有滑套504，所述滑套504内滑动连接有滑杆505，所述滑杆505的顶端连接有固定板506，所述固定板506安装在清洗机体2外，所述滑杆505的底端连接有圆板507，所述滑杆505外套设有第一弹性组件508，所述第一弹性组件508的顶端与滑套504连接，所述第一弹性组件508的底端与圆板507连接。

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