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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种具有微纳分层结构的抗结垢阴极制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119194484B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411323016.6，技术领域涉及：C25B11/00；该发明授权一种具有微纳分层结构的抗结垢阴极制备方法是由于洪涛;王威龙设计研发完成，并于2024-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有微纳分层结构的抗结垢阴极制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于电极技术领域，公开了一种具有微纳分层结构的抗结垢阴极制备方法。步骤如下：制备金属微阵列；制备微纳分层结构；微纳分层表面构建耐碱保护层；浇筑惰性保护壳。本发明的制备方法得到的阴极可利用生成的H2微气泡沿疏水表面迁移并聚集成气泡层，防止阴极表面与H2O、Ca2+、HCO3‑接触。因此，只有纳米活性位点作为垢晶的锚点。当垢晶堆叠成链状后与锚点间的稳定性越来越弱。同时，H2的持续注入使气泡层成长为大气泡，在浮力作用下从阴极表面逸出，并在向液面迁移时破裂。气泡破裂产生的振动引起不稳定地立在活性点位上的垢晶链自动脱落。本发明从根本上解决了阴极结垢的问题，在广泛的领域皆具有巨大的应用潜力。

本发明授权一种具有微纳分层结构的抗结垢阴极制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有微纳分层结构的抗结垢阴极制备方法，其特征在于，步骤如下： 1制备金属微阵列结构：配制含有Cl-和OH-的混合溶液作为电解液，将金属丝束固定在电解液中，在1-99℃的恒温、恒定电压条件下阳极氧化1-300min，随后冲洗待用； 2制备微纳分层结构：以镍盐、铁盐、钴盐、晶面保护剂、缓冲剂和表面活性剂混合后的溶液为电解液，在1-99℃的恒温条件下，恒定电流密度为1-200mAcm2反应1-300min，实现在微阵列结构上制备出纳米结构，得到具有微纳分层结构的材料； 3构建耐碱保护层：将具有微纳分层结构的材料在1-99℃的恒温条件下，以OH-浓度为0.05-20molL的溶液为电解液，在1-20VvsRHE的电位范围内通过1-50000次重复循环伏安扫描激活后，得到耐碱腐蚀的微纳分层结构材料； 4制备惰性保护壳：将耐碱腐蚀的微纳分层结构材料竖直放置于模具中，加入脱模剂，然后将惰性试剂、固化剂和粘结剂混合成的惰性浆料浇筑到模具中，在惰性气氛下于50-450℃下热固化1-300min，最终得到微纳分层抗结垢电极。

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