武汉理工大学吴劲松获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种具有表面包覆和层间类掺杂双重效应的镧系改性策略获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119400822B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411487752.5，技术领域涉及：H01M4/36；该发明授权一种具有表面包覆和层间类掺杂双重效应的镧系改性策略是由吴劲松;李权;余一梦;曾炜豪;王红设计研发完成，并于2024-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有表面包覆和层间类掺杂双重效应的镧系改性策略在说明书摘要公布了：本发明的目的在于开发一种具有广泛应用潜力的镧系改性策略，该策略能够在锂离子电池正集材料的表面形成富含氧空位的Q1‑x‑yMxNyO1.9镧系氧化物包覆层，并在材料层间形成共格纳米沉淀相，从而实现表面包覆和层间类掺杂的双重改性效果。得益于这一双重改性，材料的循环稳定性显著提高，电压降得到有效抑制，结构稳定性得到了显著增强。
本发明授权一种具有表面包覆和层间类掺杂双重效应的镧系改性策略在权利要求书中公布了：1.一种镧系包覆掺杂双重改性正极复合材料，其特征在于，在锂离子电池正极材料表面形成富含氧空位的Q1-x-yMxNyO1.9镧系氧化物包覆层，其中，Q为Ce，M为La，N为Yb，0x0.35，0y0.35，所述富含氧空位的Q1-x-yMxNyO1.9镧系氧化物包覆层中的镧系元素掺杂到被包覆的锂离子电池正极材料的层状结构中，并在层状结构中形成共格纳米沉淀相，实现表面包覆和层间类掺杂的双重改性，包覆层厚度为1-5nm。
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