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龙图腾网获悉华北水利水电大学申请的专利一种氧还原反应用单原子催化剂的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119447325B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411464281.6，技术领域涉及：H01M4/88；该发明授权一种氧还原反应用单原子催化剂的制备方法是由李艳强;仝玉萍;崔明;黄亮;陈希;王晓;张海龙;韩双乔;严亮设计研发完成，并于2024-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种氧还原反应用单原子催化剂的制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于材料制备技术领域，涉及一种氧还原反应用单原子催化剂的制备方法，所述制备方法包括：首先将金属盐与4,4'‑联吡啶置于甲醇或者乙醇溶液中，搅拌后过滤得到前驱物。然后将得到的前驱物置于管式炉中，惰性气氛下程序升温煅烧，后自然冷却至室温，后经酸洗、过滤得到目标催化剂。本申请提供的制备方法合成方法简便，易于大规模生产，且具有优异的氧还原反应催化活性，可以有效替代PtC用于氧还原反应。

本发明授权一种氧还原反应用单原子催化剂的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种氧还原反应用单原子催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1：将物质的量比为1:3~3:1的金属盐与4,4'-联吡啶置于甲醇或者乙醇液体中，搅拌处理、过滤，得到前驱物； 步骤2：将步骤1中得到的前驱物在预设气体氛围下、升温至600~1000℃后煅烧0.5~4h，升温速率为4~6℃min，然后冷却至20~25℃，得到产物； 步骤3：将所述产物进行酸洗、水洗后过滤，得到单原子催化剂；然后采用高介电常数的介质材料HfO2对所述单原子催化剂进行表面修饰，所述采用高介电常数的介质材料HfO2对所述单原子催化剂进行表面修饰的方法包括： 以10~15：1：20~30的质量比，准备单原子催化剂、HfCl4、H2O； 先将制备好的单原子催化剂放入原子层沉积反应室中， 再将HfCl4均分为25份、将H2O均分为25份，向原子层沉积反应室交替通入HfCl4、H2O，每次均通入一份，每次通入HfCl4时施加脉冲1秒、间隔5秒后，然后通入H2O施加脉冲0.5秒，间隔5秒后，再次通入HfCl4，如此循环，直至处理完成，得到沉积后的单原子催化剂； 然后将沉积后的单原子催化剂进行加热，在400~500°C恒温保持1~2h，即得到表面修饰后的单原子催化剂。

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