南方海洋科学与工程广东省实验室(珠海);中山大学张淏酥获国家专利权
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龙图腾网获悉南方海洋科学与工程广东省实验室(珠海);中山大学申请的专利一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119596437B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411964493.0，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法是由张淏酥;王梓豪;徐灵基;蔡悦盈;杨亮;牟伟;苗建明;刘涛设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法，光栅偏振片依次包括基底层、光刻胶层、金属膜层、第一介质膜层和第二介质膜层，所述第一介质膜层的折射率大于或等于所述光刻胶层的折射率，所述第二介质膜层的折射率大于所述基底层的折射率，所述金属膜层、所述第一介质膜层和所述第二介质膜层形成多层光栅结构。本发明实施例能够提高消光比和透光效率，可广泛应用于光器件技术领域。
本发明授权一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光栅偏振片，其特征在于，依次包括基底层、光刻胶层、金属膜层、第一介质膜层和第二介质膜层，所述第一介质膜层的折射率大于或等于所述光刻胶层的折射率，所述第二介质膜层的折射率大于所述基底层的折射率，所述金属膜层、所述第一介质膜层和所述第二介质膜层形成多层光栅结构；光栅结构的空隙保留部分光刻胶，所述第一介质膜层的厚度根据所述光刻胶层的平均厚度确定；所述光刻胶层的平均厚度的计算公式如下： h avg=w1w2h2-t+w2-w1w2h2-b 其中，havg表示光刻胶层的平均厚度，w1表示光栅的宽度，w2表示光栅的周期，h2-t表示光刻胶层的总厚度，h2-b表示光栅结构的空隙保留的光刻胶高度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人南方海洋科学与工程广东省实验室(珠海);中山大学，其通讯地址为：519082 广东省珠海市香洲区唐家湾镇大学路2号海琴四号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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