西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安欣芯材料科技有限公司孙毅获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安欣芯材料科技有限公司申请的专利外延生长设备、外延生长方法以及外延晶圆获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119764210B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411646812.3，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权外延生长设备、外延生长方法以及外延晶圆是由孙毅;杨海龙设计研发完成，并于2024-11-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本外延生长设备、外延生长方法以及外延晶圆在说明书摘要公布了：本公开提供了外延生长设备、外延生长方法以及外延晶圆；所述外延生长设备包括：传送腔室；外延反应腔室；第一气体处理装置，与所述传送腔室连通，以处理从其排出的气体；第二气体处理装置，与所述外延反应腔室连通，以处理从其排出的气体；控制装置，配置成：在所述第一气体处理装置和所述第二气体处理装置中的任一者发生故障的情况下，中断所述传送腔室与所述第一气体处理装置的连通以及所述外延反应腔室与所述第二气体处理装置的连通。
本发明授权外延生长设备、外延生长方法以及外延晶圆在权利要求书中公布了：1.一种外延生长设备，其特征在于，所述外延生长设备包括： 传送腔室； 外延反应腔室； 第一气体处理装置，与所述传送腔室连通，以处理从其排出的气体； 第二气体处理装置，与所述外延反应腔室连通，以处理从其排出的气体； 控制装置，配置成： 在所述第一气体处理装置和所述第二气体处理装置中的任一者发生故障的情况下，中断所述传送腔室与所述第一气体处理装置的连通以及所述外延反应腔室与所述第二气体处理装置的连通，所述控制装置还配置成： 在所述第一气体处理装置和所述第二气体处理装置均未发生故障且所述传送腔室与所述外延反应腔室之间的压力差未处于预设的阈值范围的情况下，控制所述压力差处于所述阈值范围， 所述控制装置还配置成： 通过控制所述第一气体处理装置和或所述第二气体处理装置的吸力来使所述压力差处于所述阈值范围，以控制外延生长过程中的颗粒污染。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安欣芯材料科技有限公司，其通讯地址为：710065 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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