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浙江工业大学温聪获国家专利权

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龙图腾网获悉浙江工业大学申请的专利一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120038601B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510211285.1,技术领域涉及:B24B1/00;该发明授权一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法是由温聪;曾晰;罗斐凡;宫正;高卓航;王家耀;蔡振宇;张宝辰设计研发完成,并于2025-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。

一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法;该平台包括机架、用于夹持和移动工件的工件转移机构、机械流体抛光模块和光催化检测反馈模块。机械流体抛光模块包括两用抛光槽体、机械抛光组件和光催化流体抛光组件。本发明在光催化流体抛光腔室中设置遮光区域,并分别检测遮光区域内外的氧化还原电位,通过求差获得光激发ORP值,并根据调节紫外光强度,使得光激发ORP值维持在理想区间内,保持整个光催化流体抛光流程的高效可靠;由于光激发ORP排除对抛光液中对工件表面氧化贡献微小的原有物质氧化性的影响,故其能够准确衡量因光催化产生的羟基自由基增量,提高本发明中光催化流体抛光流程的控制精准性。

本发明授权一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法在权利要求书中公布了:1.一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台,包括工件转移机构4;其特征在于:还包括机械流体抛光模块2和光催化检测反馈模块3; 所述机械流体抛光模块2包括两用抛光槽体2-1、机械抛光组件和光催化流体抛光组件;所述两用抛光槽体2-1中设有相互独立的机械抛光腔室和光催化流体抛光腔室;所述机械抛光组件用于在机械抛光腔室中对工件6进行机械抛光; 所述光催化流体抛光组件包括安装在光催化流体抛光腔室中的射流喷嘴2-4、紫外光源2-5;光强能够调节的紫外光源2-5安装在光催化流体抛光腔室底部;所述射流喷嘴2-4用于对浸没在光催化流体抛光腔室的抛光液中的工件表面喷射含TiO2颗粒和过氧化氢的抛光液; 所述机械抛光组件包括磨削抛光盘2-2和机械抛光驱动结构2-3;磨削抛光盘2-2转动安装在机械抛光腔室底部,并由机械抛光驱动结构2-3驱动旋转; 所述光催化流体抛光腔室的底面中部设有向下凹陷的光源安装区;所述光源安装区的顶部开口处安装有防护网;所述紫外光源2-5安装在光源安装区; 所述光催化检测反馈模块3包括光催化ORP传感器3-2、遮光罩3-3、基准ORP传感器3-4和光强传感器3-5;所述光强传感器3-5用于检测光催化流体抛光腔室内的紫外光照强度;所述遮光罩3-3安装在光催化流体抛光腔室中,形成紫外光无法照射到的遮光区域;遮光区域与光催化流体抛光腔室内的其他区域连通;所述基准ORP传感器3-4的检测部位于遮光区域中;所述光催化ORP传感器3-2的检测部位于光催化流体抛光腔室的遮光区域以外区域;光催化流体抛光过程中,通过光催化ORP传感器3-2与基准ORP传感器3-4测得的氧化还原电位差值,调节紫外光源2-5发射的紫外光强; 所述工件转移机构4包括三轴移动模块4-1、加压模块4-2和装夹结构4-3;所述装夹结构4-3通过加压模块4-2安装在三轴移动模块4-1上;所述加压模块4-2用于在机械抛光中对工件6施加挤压力。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人浙江工业大学,其通讯地址为:310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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