中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司严中稳获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116165838B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111417022.4，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法是由严中稳;刘娜设计研发完成，并于2021-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法在说明书摘要公布了：一种光学临近修正方法及掩膜版的制作方法，所述光学临近修正方法包括：获取初始版图；对初始版图进行若干次光学临近修正，获取第n版图，n是自然数；对所述第n版图进行曝光处理，获取第n曝光版图；检测所述第n曝光版图的若干第n缺陷；根据与若干第n缺陷对应的若干初始缺陷标记、第一预设距离和次数n，形成对应的若干第n缺陷标记，第n缺陷标记的范围大于对应的初始缺陷标记的范围；在所述第n版图中，根据若干第n缺陷标记获取若干第n待修正边；根据预设移边步长移动若干第n待修正边，形成第n+1版图。从而，改善了光学临近修正方法的效率和修正效果。
本发明授权光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种光学临近修正方法，其特征在于，包括： 获取初始版图； 对初始版图进行若干次光学临近修正，获取第n版图，n是自然数； 对所述第n版图进行曝光处理，获取第n曝光版图； 检测所述第n曝光版图的若干第n缺陷； 根据与若干第n缺陷对应的若干初始缺陷标记、第一预设距离和次数n，形成对应的若干第n缺陷标记，第n缺陷标记的范围大于对应的初始缺陷标记的范围； 在所述第n版图中，根据若干第n缺陷标记获取若干第n待修正边； 根据预设移边步长移动若干第n待修正边，形成第n+1版图； 所述第n版图包括若干第n图形，在所述第n版图中，根据若干第n缺陷标记获取若干第n待修正边的方法包括：根据与第n缺陷标记接触的第n图形的部分或全部轮廓，获取第n待修正边。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区张江路18号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励