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龙图腾网获悉中国科学院合肥物质科学研究院申请的专利一种面向量子点基发光微器件及其瞬态乳液法序构制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119546145B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411509090.7，技术领域涉及：H10K71/12；该发明授权一种面向量子点基发光微器件及其瞬态乳液法序构制备方法是由刘迪龙;李亮;曹安;李昕扬;李越设计研发完成，并于2024-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种面向量子点基发光微器件及其瞬态乳液法序构制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于LED技术领域，具体公开了一种面向量子点基发光微器件及其瞬态乳液法序构制备方法。本发明基于正丁醇‑水的典型瞬态乳液体系，构筑瞬态乳液组装序构印刷技术，对模板上微孔内‑外亲疏水调控，利用瞬态乳液法易限域乳化的本征优势，设计出微孔内层层组装序构器件化的印刷工艺。制得以导电亲水材料ITO为正极，PEDOT:PSS溶液导电聚合物为空穴传输层，水溶性CdSe量子点为自发光构筑基元、氧化锌纳米颗粒为电子传输层、Ag电极为负极的发光微器件，实现量子点基自发光材料的微小芯片。本发明可以实现大面积可控制备，不需要昂贵的设备，节约成本。此外本发明能够实现快速制备，为下一代Micro‑QLED显示的低成本、高效和可控构筑提供实施方案与最优工艺。

本发明授权一种面向量子点基发光微器件及其瞬态乳液法序构制备方法在权利要求书中公布了：1.一种面向量子点基发光微器件的瞬态乳液法序构制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤A、取具有微孔阵列的模板，该模板中阵列孔的孔壁为疏水材料、孔底部为导电亲水材料，在阵列孔开口所在的面上滴加正丁醇至阵列孔被完全填充，静置待阵列孔被充分浸润后，去除阵列孔外多余的正丁醇； 步骤B、在阵列孔开口所在的面滴加PEDOT:PSS溶液，静置一段时间，正丁醇和PEDOT:PSS溶液相溶填充阵列孔； 步骤C、去除阵列孔外多余的正丁醇和PEDOT:PSS溶液，随后静置干燥，在阵列孔中组装形成不连续的PEDOT:PSS膜层； 步骤D、将正丁醇滴加到形成PEDOT:PSS膜层的阵列孔中，静置待阵列孔被充分浸润后，去除阵列孔外多余的正丁醇； 步骤E、将CdSeZnS水相量子点滴加到阵列孔中的正丁醇中，静置待CdSeZnS水相量子点和正丁醇相溶填充阵列孔； 步骤F、去除多余的正丁醇和CdSeZnS水相量子点溶液，随后静置干燥，在阵列孔中PEDOT:PSS膜层所在的表面组装形成不连续的水相量子点膜层； 步骤G、在阵列孔开口所在的面上滴加ZnO的乙醇溶液，旋涂、干燥，形成连续的ZnO层； 步骤H、采用真空蒸镀仪在ZnO层的表面真空蒸镀形成Ag电极，再封装得到面向量子点基发光微器件。

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