深圳市镀量恒科技有限公司刘壮获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市镀量恒科技有限公司申请的专利一种绒面硅衬底上薄膜厚度测量方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119594868B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411744025.2，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权一种绒面硅衬底上薄膜厚度测量方法及设备是由刘壮;崔骏;熊强设计研发完成，并于2024-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种绒面硅衬底上薄膜厚度测量方法及设备在说明书摘要公布了：本申请涉及薄膜厚度测量的技术领域，尤其是涉及一种绒面硅衬底上薄膜厚度测量方法及设备，包括以下步骤：采用至少一束光束垂直入射至薄膜样品表面并接收反射光束；调节所述薄膜样品的位置，使所述薄膜样品处于合适的测试坐标和角度；设定在合适的测试坐标和角度下，入射光束第一次入射至所述薄膜样品表面的位置为第一位置，入射光束经过反射后入射至所述薄膜样品表面的另一位置为第二位置，确定所述第一位置处的入射光强度及有效入射光强度；计算所述第一位置处光束的反射率、透射率、反射光强度，并以此为基础计算出所述第二位置处的理论反射率和实际反射率，最后代入理论公式中得到待测薄膜的厚度。本申请具有提高测量结果的准确性的效果。
本发明授权一种绒面硅衬底上薄膜厚度测量方法及设备在权利要求书中公布了：1.一种绒面硅衬底上薄膜厚度测量方法，其特征在于，包括以下步骤： 采用至少一束光束垂直入射至薄膜样品6表面并接收反射光束，所述薄膜样品6的表面具有金字塔形状的绒面； 调节所述薄膜样品6的位置，使所述薄膜样品6处于合适的测试坐标和角度； 设定在合适的测试坐标和角度下，入射光束31第一次入射至所述薄膜样品6表面的位置为第一位置61，入射光束31经过反射后入射至所述薄膜样品6表面的另一位置为第二位置62，确定所述第一位置61处的入射光强度及有效入射光强度； 计算所述第一位置61处光束的反射率、透射率、反射光强度，并以此为基础计算出所述第二位置62处的理论反射率和实际反射率，最后代入理论公式中得到待测薄膜的厚度。
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