湖北兴福电子材料股份有限公司李金航获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北兴福电子材料股份有限公司申请的专利硅片清洗蚀刻液及其在抑制硅片表面氧化中的应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119799338B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411800338.5,技术领域涉及:C09K13/08;该发明授权硅片清洗蚀刻液及其在抑制硅片表面氧化中的应用是由李金航;张庭;贺兆波;叶瑞;武昊冉;许真;董攀飞;蒲帅;杨翠翠;陈小超;罗海燕;刘春丽;王乘风设计研发完成,并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本硅片清洗蚀刻液及其在抑制硅片表面氧化中的应用在说明书摘要公布了:本发明涉及电子化学品技术领域,具体公开了一种硅片清洗蚀刻液及其在抑制硅片表面氧化中的应用,该蚀刻液中按质量百分数计,含有氢氟酸0~10%,氟化铵0~30%和添加剂0.001~1%,其余为水;所述添加剂为含有烯烃和酰胺的化合物。本发明中以氢氟酸和氟化铵组成清洗体系,同时引入了含有烯烃和酰胺的化合物作为添加剂,通过改性硅片表面的自由基团,其能够有效抑制硅片清洗后表面自然氧化,保证后续制造工艺的稳定和精度。
本发明授权硅片清洗蚀刻液及其在抑制硅片表面氧化中的应用在权利要求书中公布了:1.一种硅片清洗蚀刻液,其特征在于,该蚀刻液中按质量百分数计,含有氢氟酸0.1~10%,氟化铵1~30%和添加剂0.001~0.5%,其余为水;所述添加剂为含有烯烃和酰胺的化合物;所述氢氟酸为电子级,质量浓度为48-50%;所述氟化铵为电子级,质量浓度为48-50%;所述含有烯烃和酰胺的化合物为丁烯酰胺,辛烯酰胺,十二烯酰胺,十一碳-10-烯酰胺,花生四烯酰胺中的任意一种或几种的组合。
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