中国电子科技集团公司第三十研究所刘正斌获国家专利权
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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第三十研究所申请的专利一种ARX密码抗差分和线性分析的安全性评估方法及系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119903523B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411939567.5,技术领域涉及:G06F21/57;该发明授权一种ARX密码抗差分和线性分析的安全性评估方法及系统是由刘正斌设计研发完成,并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种ARX密码抗差分和线性分析的安全性评估方法及系统在说明书摘要公布了:本申请公开了一种ARX密码抗差分和线性分析的安全性评估方法及系统,涉及密码技术,包括:分别构造模加的依赖进位的差分分布表CDDT和依赖进位的线性近似表CLAT;根据差分概率和线性概率分别对CDDT和CLAT进行排序;在排序后,基于分支定界算法搜索ARX密码的最优差分特征和线性特征;在遍历完所有明文差分和掩码后,获得最大差分和线性特征概率作为相应轮数ARX密码的最大差分和线性特征概率。本申请基于依赖进位的差分分布表和线性近似表,提出一种ARX密码抗差分和线性分析的安全性评估方法,解决ARX密码设计过程中抗差分和线性分析的安全性评估问题。
本发明授权一种ARX密码抗差分和线性分析的安全性评估方法及系统在权利要求书中公布了:1.一种ARX密码抗差分和线性分析的安全性评估方法,其特征在于,包括: 分别构造模加的依赖进位的差分分布表CDDT和依赖进位的线性近似表CLAT; 根据差分概率和线性概率分别对CDDT和CLAT进行排序; 在排序后,基于分支定界算法搜索ARX密码的最优差分特征和线性特征; 在遍历完所有明文差分和掩码后,获得最大差分和线性特征概率作为相应轮数ARX密码的最大差分和线性特征概率; 分别构造模加的CDDT和CLAT包括利用如下方式构造比特CDDT: 遍历比特的输入差分和输出差分,以及3个1比特的进位差分 对于的每一个取值,计算中间变量的值; 判断是否为不可能差分,如果,则是一条可能的差分传播,即差分概率不为0;如果,则是一条不可能差分; 对于可能的差分传播,计算相应的差分概率,并将差分概率和输出差分分别存储在CDDT_P和CDDT_D中。
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