武汉华星光电技术有限公司马莉娜获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利显示面板及显示设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119947449B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510072254.2，技术领域涉及：H10K59/122；该发明授权显示面板及显示设备是由马莉娜设计研发完成，并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板及显示设备在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了一种显示面板及显示设备，像素定义结构层包括第一像素定义层和设置在所述第一像素定义层上的第二像素定义层。在冗余像素区中，第一像素定义层和第二像素定义层交叉连接形成多个冗余开口，冗余开口暴露所述平坦层。本申请实施例基于冗余开口直接暴露平坦层，也即冗余开口的区域没有阳极，因此相较于显示区，冗余开口的深度要大于像素开口的深度，使得冗余开口可以容纳更多的溶剂，以提高有效发光功能层的厚度均一性和缩小冗余像素区的宽度。
本发明授权显示面板及显示设备在权利要求书中公布了：1.一种显示面板，包括显示区和冗余像素区，所述冗余像素区设置于所述显示区的至少一侧，其特征在于，所述显示面板包括： 平坦层； 阳极层，设置在所述平坦层上，所述阳极层包括多个阳极，所述阳极设置在所述显示区； 像素定义结构层，设置在所述阳极层远离所述平坦层的一侧，所述像素定义结构层包括第一像素定义层和设置在所述第一像素定义层上的第二像素定义层，所述第一像素定义层和所述第二像素定义层交叉相连设置； 在所述显示区中，所述第一像素定义层和所述第二像素定义层交叉连接形成多个像素开口，所述像素开口暴露所述阳极；在所述冗余像素区中，所述第一像素定义层和所述第二像素定义层交叉连接形成多个冗余开口，所述冗余开口暴露所述平坦层，所述冗余开口的深度大于所述像素开口的深度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉华星光电技术有限公司，其通讯地址为：430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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