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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利用于金属CMP的晶圆监测方法、CMP设备、计算机存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120055987B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510429615.4，技术领域涉及：B24B37/005；该发明授权用于金属CMP的晶圆监测方法、CMP设备、计算机存储介质是由张丛;王同庆;路新春;张美洁设计研发完成，并于2024-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于金属CMP的晶圆监测方法、CMP设备、计算机存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种用于金属CMP的晶圆监测方法、CMP设备、计算机存储介质，该方法包括：在CMP设备对晶圆的金属层进行化学机械抛光的过程中，获取图像采集器采集到的至少一个第一图像，以及在垂直于抛光垫的方向上电涡流传感器与晶圆相对时，电涡流传感器采集到的晶圆信号，其中，CMP设备包括抛光头、抛光垫和供液臂，抛光头用于带动晶圆抵接在抛光垫的抛光面上，供液臂用于向抛光面提供抛光液，图像采集器用于采集抛光垫上靠近抛光头处由抛光液形成的弓波的图像；根据至少一个第一图像中的弓波的宽度，以及晶圆信号，确定晶圆相对于抛光头是否已发生滑片。本方案可以使对晶圆滑片进行监测的监测结果更加准确。

本发明授权用于金属CMP的晶圆监测方法、CMP设备、计算机存储介质在权利要求书中公布了：1.一种用于金属CMP的晶圆监测方法，其特征在于，包括： 在CMP设备对晶圆的金属层进行化学机械抛光的过程中，获取图像采集器采集到的至少一个第一图像，以及在垂直于抛光垫的方向上电涡流传感器与所述晶圆相对时，所述电涡流传感器采集到的晶圆信号，其中，所述CMP设备包括抛光头、抛光垫和供液臂，所述抛光头用于带动所述晶圆抵接在所述抛光垫的抛光面上，所述供液臂用于向所述抛光面提供抛光液，所述图像采集器用于采集所述抛光垫上靠近所述抛光头处由抛光液形成的弓波的图像； 若所述晶圆信号的信号强度小于强度阈值，或者所述晶圆信号的信号强度斜率的绝对值大于斜率阈值，则确定所述晶圆信号符合第一滑片条件； 若所述晶圆信号符合第一滑片条件，则确定所述至少一个第一图像中的弓波的宽度是否符合第二滑片条件；其中，根据所述至少一个第一图像中的弓波的宽度，确定第一弓波宽度，若所述第一弓波宽度小于第一宽度阈值，则确定所述至少一个第一图像中的弓波的宽度符合所述第二滑片条件； 若所述至少一个第一图像中的弓波的宽度符合第二滑片条件，则确定所述晶圆相对于所述抛光头已发生滑片；若确定所述晶圆相对于所述抛光头已发生滑片，则结束所述化学机械抛光。

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