华海清科股份有限公司崔云鑫获国家专利权
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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利化学机械抛光设备、抛光液检测方法及抛光方法、介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120116137B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510496644.2，技术领域涉及：B24B37/00；该发明授权化学机械抛光设备、抛光液检测方法及抛光方法、介质是由崔云鑫;王春龙;徐海洋;王科设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本化学机械抛光设备、抛光液检测方法及抛光方法、介质在说明书摘要公布了：本申请公开一种化学机械抛光设备、抛光液检测方法及抛光方法、介质。化学机械抛光设备包括：抛光盘；承载头，用于在抛光盘上对晶圆进行抛光；供液组件，用于为承载头供给抛光液，抛光液分布于抛光盘的抛光面上；升降挡圈，设置在抛光盘的外周，其上设置有亥姆霍兹线圈，升降挡圈具有停止抛光时的避让位置以及进行抛光时的阻挡位置，升降挡圈位于阻挡位置时，抛光盘的抛光面位于亥姆霍兹线圈范围内，以在抛光面上形成基础磁场；脉冲发生臂，用于在抛光液上叠加脉冲磁场；磁场检测臂，设置在脉冲发生臂和承载头之间，用于检测响应于脉冲磁场的核磁共振信号，以根据核磁共振信号反应出的氢原子的弛豫时间数据，确定抛光液的分布情况。
本发明授权化学机械抛光设备、抛光液检测方法及抛光方法、介质在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括： 抛光盘； 承载头，用于在所述抛光盘上对晶圆进行抛光； 供液组件，用于为所述承载头供给抛光液，抛光液分布于所述抛光盘的抛光面上； 升降挡圈，设置在所述抛光盘的外周，其上设置有亥姆霍兹线圈，所述升降挡圈具有停止抛光时的避让位置以及进行抛光时的阻挡位置，所述升降挡圈位于阻挡位置时，所述抛光盘的抛光面位于所述亥姆霍兹线圈范围内，以在所述抛光面上形成基础磁场； 脉冲发生臂，用于在抛光液上叠加脉冲磁场； 磁场检测臂，设置在所述脉冲发生臂和所述承载头之间，用于检测响应于脉冲磁场的核磁共振信号，以根据核磁共振信号反应出的氢原子的弛豫时间数据，确定所述抛光液的分布情况。
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