北京理工大学刘霞获国家专利权
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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利一种光刻介质及微纳结构的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120161669B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510329969.1，技术领域涉及：G03F1/76；该发明授权一种光刻介质及微纳结构的制备方法是由刘霞;李红涛;李吉祥;王业亮设计研发完成，并于2025-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻介质及微纳结构的制备方法在说明书摘要公布了：本申请实施例提供一种光刻介质，用于制备微纳结构，所述微纳结构包括基底及所述基底上的图案层，所述图案层由所述光刻介质形成，所述光刻介质由热敏光刻胶制成。本申请实施例提供的光刻介质，通过热敏光刻胶的应用，能够在纳米级别实现微纳结构的高分辨率图案化。本申请实施例还提供一种微纳结构的制备方法。
本发明授权一种光刻介质及微纳结构的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻介质，用于制备微纳结构，其特征在于，所述微纳结构包括基底及所述基底上的图案层，所述图案层由所述光刻介质形成，所述光刻介质由热敏光刻胶制成，所述热敏光刻胶为PPC，所述光刻介质由浓度为6.5%的PPC溶液形成。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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