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龙图腾网获悉天津朋通科技有限公司申请的专利一种基片磁控溅射镀膜生产设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120249912B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510736222.8，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种基片磁控溅射镀膜生产设备是由刘海东;杨雨设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基片磁控溅射镀膜生产设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基片磁控溅射镀膜生产设备，包括机架、预真空单元、传输单元、预处理单元、磁控溅射工艺单元；四个单元集成安装于机架上；预真空单元、预处理单元和磁控溅射工艺单元置于传输单元外部三个方位；传输单元通过三个基片出入口分别与预真空单元的基片出入口、预处理单元的基片出入口和磁控溅射工艺单元基片出入口连接，并在与预处理单元的连接处及与磁控溅射工艺单元的连接处分别设有闸阀；预真空单元用于基片的多层装载；传输单元用于将基片在其他三个单元之间进行传输；预处理单元用于去除基片上的水气，并对基片表面进行刻蚀；磁控溅射工艺单元用于在基片表面实现溅射镀膜。本发明提高了靶材的利用率、且实现了工艺的多样性。

本发明授权一种基片磁控溅射镀膜生产设备在权利要求书中公布了：1.一种基片磁控溅射镀膜生产设备，包括机架1、预真空单元2、传输单元3、预处理单元4、磁控溅射工艺单元5；所述预真空单元2、传输单元3、预处理单元4和磁控溅射工艺单元5集成安装于机架1上；所述预真空单元2、预处理单元4和磁控溅射工艺单元5设置于传输单元3外部三个方位；所述传输单元3分别通过基片出入口B、基片出入口C和基片出入口D分别与预真空单元2的基片出入口A2.9、预处理单元4的基片出入口E和磁控溅射工艺单元5的基片出入口F5.5连接，并在与预处理单元4的连接处及与磁控溅射工艺单元5的连接处分别设置有闸阀3.3； 所述预真空单元2包括真空腔体A2.1和置于真空腔体A2.1内的可升降的基片承载架，用于实现基片的多层装载；所述传输单元3包括真空腔体B3.1和传输执行机构3.2，所述传输执行机构3.2采用可实现升降、旋转和伸缩三个复合运动的机械手臂，用于将基片在预真空单元2、预处理单元4、磁控溅射工艺单元5三个单元之间进行传输；所述预处理单元4包括真空腔体C4.2和预处理执行机构；所述预处理执行机构包括上部加热单元4.1、基片承载单元4.6和射频功率单元，用于去除基片上的水气，并对基片表面进行刻蚀；所述磁控溅射工艺单元5包括真空腔体D和磁控溅射的执行部分；磁控溅射的执行部分包括溅射装置、基片架系统和气体供应装置，所述溅射装置和基片架系统上下相对设置，用于实现基片在绕基片架系统中心轴公转及绕自身中心轴自转的状态下实现溅射镀膜； 所述真空腔体D由下腔体5.4和上盖5.3构成，所述上盖5.3密封扣盖于下腔体5.4的上端，内部形成封闭的溅射工艺腔；所述溅射装置包括磁控阴极5.1、靶材5.13、溅射电源；所述基片架系统包括基片托盘5.14、基片支架5.23、基片托盘和基片支架运动驱动机构；所述基片托盘5.14为多个，多个基片托盘5.14以基片支架5.23的中心为中心沿圆周方向布设；所述基片托盘和基片支架运动驱动机构为用于驱动基片支架5.23带动基片托盘5.14绕公转轴5.29中心旋转同时驱动各个基片托盘5.14绕各自的自转轴中心旋转的复合运动驱动机构；由公转驱动电机5.8为基片支架5.23带动基片托盘绕公转轴5.29中心旋转提供动力，由自转驱动电机5.7为基片托盘绕各自的自转轴中心旋转提供动力； 在上盖5.3上设置有以上盖5.3中心为中心沿圆周方向布设有多个阴极安装法兰，每个阴极安装法兰处安装有一磁控阴极5.1，所述靶材5.13安装于磁控阴极5.1的下端部，所述溅射电源与磁控阴极5.1连接；基片托盘5.14和基片支架5.23置于溅射工艺腔内磁控阴极5.1的下方位置；多个基片托盘5.14与磁控阴极5.1在基片支架5.23的径向方向呈偏心设置； 在真空腔体D内位于基片支架5.23的上方通过支撑柱安装有屏蔽罩B5.16，所述屏蔽罩B5.16上对应于每个基片托盘5.14的位置设置有供基片托盘5.14向上伸出的过孔；在屏蔽罩B5.16的上端位于两相邻基片托盘5.14之间的位置设置有挡板5.15，多个挡板5.15的在中心处形成相交。

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