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龙图腾网获悉安芯美科技(湖北)有限公司申请的专利一种半导体晶圆杂质清洗设备及其清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120325617B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510585412.4，技术领域涉及：B08B3/14；该发明授权一种半导体晶圆杂质清洗设备及其清洗方法是由陆金发设计研发完成，并于2025-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体晶圆杂质清洗设备及其清洗方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种半导体晶圆杂质清洗设备及其清洗方法，属于半导体晶圆清洗技术领域，通过设置转动电机、十字放置架、电动推杆二、移动卡块、弹性卡块和超声波发射器，弹性卡块贴紧在晶圆边缘，将晶圆卡紧固定在垫块顶部，方便对晶圆进行拆卸或卡紧固定，控制电动推杆三带动移动滑块滑动，直至导水板带动超声波发射器移动至晶圆顶部，在压紧弹簧的回弹作用下使超声波发射器压紧在晶圆表面，启动转动电机带动十字放置架进行转动，使晶圆在十字放置架顶部随十字放置架同步进行转动，在晶圆转动时，启动超声波发射器发出超声波在清洗液中产生细小气泡，随着气泡破裂对晶圆表面进行清洗，从而对晶圆表面进行全面清洗。

本发明授权一种半导体晶圆杂质清洗设备及其清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体晶圆杂质清洗设备，包括清洗箱1，其特征在于：所述清洗箱1顶部的两侧通过转轴分别转动安装有盖板101，所述清洗箱1一侧的底部固定安装有循环水泵2，所述循环水泵2的输入端连通设有导水管201，所述循环水泵2的输出端连通设有三通水管202，所述三通水管202表面卡接有多个固定卡扣203，且固定卡扣203与清洗箱1或盖板101表面固定连接，所述三通水管202远离循环水泵2的一端穿过盖板101连通有喷头204，且喷头204固定连接于盖板101内壁顶部的中央位置处所述清洗箱1底部的两侧对称固定安装有集水箱3，所述清洗箱1底部固定安装有转动电机4，转动电机4的输出端穿过清洗箱1底部延伸至清洗箱1内部，且转动电机4输出端通过轴承与清洗箱1底部转动连接，所述转动电机4顶部的输出端固定安装有十字放置架5，所述清洗箱1内壁的顶部固定安装有压紧清理机构6； 所述十字放置架5顶部的中央位置处固定安装有垫块501，所述十字放置架5底部等角度固定安装有四个支撑板502，所述支撑板502一侧的底部固定安装有转动座一503，所述转动座一503内部通过销轴转动安装有电动推杆二504，所述电动推杆二504远离转动座一503的一端通过销轴转动安装有转动座二505，所述十字放置架5顶部等角度设有四个限位滑槽506，且限位滑槽506贯穿十字放置架5； 所述限位滑槽506内部滑动安装有移动卡块507，且移动卡块507底部与转动座二505固定连接，所述移动卡块507顶部的一侧设有定位插孔508，所述移动卡块507顶部设有弹性卡块509，所述弹性卡块509底部的一侧设有定位卡柱510，所述定位卡柱510与定位插孔508的位置相对应且形状相同，所述弹性卡块509顶部设有固定螺栓511，且固定螺栓511贯穿弹性卡块509与移动卡块507螺纹连接； 所述压紧清理机构6包括限位滑杆601，所述限位滑杆601的数量为两个，且限位滑杆601两端与清洗箱1内壁固定连接，所述限位滑杆601表面分别贯穿滑动安装有移动滑块602，所述移动滑块602一侧位于限位滑杆601的底部固定连接有电动推杆三603，且电动推杆三603与清洗箱1内壁固定连接，所述移动滑块602顶部固定安装有凹型架604； 所述凹型架604内顶部和移动滑块602顶部之间固定安装有安装柱605，所述安装柱605表面贯穿滑动安装有压紧板606，且安装柱605位于压紧板606顶部的表面套接有压紧弹簧607，两个所述压紧板606之间固定安装有导水板608，所述导水板608底部设有超声波发射器609。

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