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龙图腾网获悉匠岭科技(上海)有限公司申请的专利半导体结构预测模型的训练方法、装置及光学关键尺寸测量方法、装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120705594B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511195794.6，技术领域涉及：G06F18/214；该发明授权半导体结构预测模型的训练方法、装置及光学关键尺寸测量方法、装置是由练勇强;胡晔琳;党江涛;戴正军;刘玉振;高海军设计研发完成，并于2025-08-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体结构预测模型的训练方法、装置及光学关键尺寸测量方法、装置在说明书摘要公布了：本说明书一个或多个实施例提供一种半导体结构预测模型的训练方法、装置及光学关键尺寸测量方法、装置。该训练方法包括：获取原始训练样本，原始训练样本包括原始光谱值和对应半导体结构的多组目标参数，循环执行以下步骤，直至满足条件：采用原始训练样本作为首轮训练使用的训练样本对结构预测模型进行训练；在训练完毕后，判断结构预测模型的精度是否达标；在未达标的情况下，分别确定每组目标参数的本轮预测效果；针对每组目标参数，在本轮预测效果优于前一轮预测效果的情况下，更新目标参数对应的模型权重；确定下轮训练使用的增量训练样本；将原始训练样本和增量训练样本确定为下轮训练使用的训练样本继续对结构预测模型进行训练。

本发明授权半导体结构预测模型的训练方法、装置及光学关键尺寸测量方法、装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体结构预测模型的训练方法，其特征在于，所述结构预测模型用于预测多组不完全相同的半导体结构的目标参数，每组目标参数对应一个维度，每个维度代表不同结构参数的组合或排列结果，每组目标参数对应一组模型权重，所述方法包括： 获取原始训练样本，所述原始训练样本包括原始光谱值和对应半导体结构的多组目标参数，其中，所述原始光谱值为样本特征，所述多组目标参数为对应的多组不完全相同的样本标签； 循环执行以下步骤，直至满足条件： 采用所述原始训练样本作为首轮训练使用的训练样本对所述结构预测模型进行训练； 在训练完毕后，判断所述结构预测模型的精度是否达标； 在所述结构预测模型的精度未达标的情况下，分别确定每组目标参数的本轮预测效果； 针对每组目标参数，在本轮预测效果优于前一轮预测效果的情况下，更新所述目标参数对应的模型权重； 确定下轮训练使用的增量训练样本，所述增量训练样本包括增量光谱值和对应的多组目标参数； 将所述原始训练样本和所述增量训练样本确定为下轮训练使用的训练样本继续对所述结构预测模型进行训练。

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