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龙图腾网获悉北京电子量检测装备有限责任公司申请的专利一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120722650B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511148615.3，技术领域涉及：G03F1/84；该发明授权一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法是由张莲莲;林涛;刘欣设计研发完成，并于2025-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法，涉及掩模版缺陷检测技术领域，按指令倍率与掩模版名自动调取并固化检测参数；以光校准点灰度二次多项式拟合归一化矫正参考图；划分检测区后提取ORB特征，经汉明距离与RANSAC得亚像素同名点对；求仿射矩阵精对齐Die图像后差分检测缺陷。本发明能够替代人工复判，将检测时间缩至秒级，缺陷识别准确率≥99%，满足28nm节点高效精准需求。

本发明授权一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法在权利要求书中公布了：1.一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法，其特征在于，包括： 基于检测指令中的检测倍率信息以及待测掩模板名称，调整用于对待测掩模板进行缺陷检测的设备的检测参数，并将所述检测参数与所述待测掩模板名称进行关联存储； 基于所述待测掩模板对应的参考图像中光校准点的灰度值，对所述参考图像进行光源亮度矫正，并生成矫正后的参考图像； 对所述矫正后的参考图像进行检测区域划分，提取划分结果中的待测Die图像对应的待测ORB特征点以及参考Die图像对应的参考ORB特征点，利用汉明距离匹配与RANSAC剔除误匹配，建立亚像素级同名点对； 结合所述亚像素级同名点对，确定将所述待测Die图像转换为所述参考Die图像的转换矩阵，基于所述转换矩阵，将所述待测Die图像与所述参考Die图像对齐处理，并根据对齐处理结果进行缺陷检测； 光源亮度矫正之前还包括对待测掩模板进行矫正处理，具体为： 初始化成功后，将软件下发的检测倍率、产品名称及ROI参数载入内存，从模板库读取与产品名称对应的基准模板图像，并在所述基准模板图像的四角及中心区域提取ORB特征点，同时将采集到的原始待测图像传入内存缓冲区；在两幅图中进行ORB描述子匹配，先用Hamming距离暴力匹配得到粗匹配点对，再用RANSAC迭代剔除误匹配，保留置信度最高的≥8对同名点，基于最高的≥8对同名点计算待测图像相对于基准模板的平移向量dx,dy和旋转角度θ，生成2×3仿射矩阵；控制系统依据所述仿射矩阵驱动高精度XTθ平台实时补偿，平台移动到位后再次采集图像并重复上述匹配-计算-补偿闭环，直至平移向量dx,dy0.05像素，且θ0.002rad，确认产品已完成亚像素级精定位。

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