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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利气体处理系统和气体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120733544B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511213632.0，技术领域涉及：B01D53/78；该发明授权气体处理系统和气体处理方法是由葛展志;陈月月设计研发完成，并于2025-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本气体处理系统和气体处理方法在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种气体处理系统和气体处理方法，该气体处理系统用于对包含一氧化氮的副产物气体进行处理；该气体处理系统包括：导流装置，用于引导副产物气体的流动；第一喷淋装置，用于在副产物气体在导流装置内流动的过程中，向副产物气体喷淋酸性的脱硝液体；其中，脱硝液体中含有氢离子和氧化剂。通过本申请实施例，提升了对副产物气体中一氧化氮的脱除效果，降低了副产物气体中气态氮氧化物的含量。

本发明授权气体处理系统和气体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种气体处理系统，其特征在于，所述气体处理系统用于对包含一氧化氮的副产物气体进行处理；所述气体处理系统包括： 导流装置，用于引导所述副产物气体的流动；所述导流装置包括：进气口，用于通入所述副产物气体；气流通道；出气口，用于流出经过气体处理后的净化气体； 第一喷淋装置，用于在所述副产物气体在所述导流装置内流动的过程中，向所述副产物气体喷淋酸性的脱硝液体；所述第一喷淋装置设置于所述气流通道内；所述第一喷淋装置与所述进气口的距离小于所述第一喷淋装置与所述出气口的距离；其中，所述脱硝液体中含有氢离子和氧化剂；所述脱硝液体基于半导体清洗工艺过程中产生的副产物液体制成；所述副产物液体包括硫酸、过氧化氢、水和碳化杂质； 所述气体处理系统还包括： 第二喷淋装置，用于在所述副产物气体在所述导流装置内流动的过程中，向所述副产物气体喷淋碱性的吸收液体；所述第二喷淋装置设置于所述气流通道内；所述第二喷淋装置与所述进气口的距离大于所述第二喷淋装置与所述出气口的距离；其中，所述吸收液体中含有氢氧根离子； 设置于所述第一喷淋装置和所述第二喷淋装置之间的氮氧化物传感器，用于检测沿所述气流通道流动的气体所包含的氮氧化物的成分； 与所述第一喷淋装置相连接的脱硝液体制备装置，用于基于所述副产物液体制备所述脱硝液体；所述脱硝液体制备装置包括： 过滤单元，用于过滤所述副产物液体中的所述碳化杂质，得到过滤液体； 稀释单元，用于对所述过滤液体进行稀释，得到稀释液体； 氧化单元，用于向所述稀释液体中加入氧化剂，得到所述脱硝液体。

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