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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利液处理装置和液处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112071771B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010500958.2，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权液处理装置和液处理方法是由梶原英树;米光祐弥;山中晋一郎;水篠真一;饭田成昭;川上浩平;东徹设计研发完成，并于2020-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本液处理装置和液处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供液处理装置和液处理方法。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。

本发明授权液处理装置和液处理方法在权利要求书中公布了：1.一种液处理装置，其特征在于， 该液处理装置具备： 多个基板保持部，其分别保持基板； 第1喷嘴，其为了在保持于各所述基板保持部的基板之上的第1喷出位置向该基板喷出第1处理液而以各所述基板保持部为单位设置； 第2喷嘴，其相对于所述第1喷嘴独立地移动，在保持于各所述基板保持部的基板之上的第2喷出位置以迟于所述第1处理液的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，该第2喷嘴被所述多个基板保持部共用； 第3喷嘴，其相对于所述第1喷嘴以及所述第2喷嘴独立地移动，为了在保持于各所述基板保持部的基板之上的第3喷出位置于未向所述基板进行所述第1处理液和所述第2处理液的供给时向所述基板喷出第3处理液而以各所述基板保持部为单位设置； 第1待机部、第2待机部和第3待机部，其使所述第1喷嘴、所述第2喷嘴、所述第3喷嘴分别于俯视时在所述基板由各基板保持部保持的保持区域的外侧待机； 回转机构，其使所述第1喷嘴于俯视时在所述第1待机部与所述第1喷出位置之间回转；以及 直动机构，其使所述第3喷嘴于俯视时在所述第3待机部与所述第3喷出位置之间直线移动， 将保持于一个所述基板保持部的所述基板设为第1基板，将保持于另一所述基板保持部的所述基板设为第2基板， 将从所述第1喷嘴自所述第1待机部开始移动的时刻到所述第2喷嘴结束第2处理液的喷出的时刻设为连续处理， 该液处理装置设置有控制部，该控制部输出控制信号，以使对所述第1基板进行所述连续处理的期间与对所述第2基板进行所述连续处理的期间重叠，并在针对所述第1基板进行的自所述第2喷嘴喷出所述第2处理液的处理开始之前，使所述第1喷嘴开始向针对所述第2基板的所述第1喷出位置移动。

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