应用材料公司金庆泰获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112313784B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880094749.3，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统是由金庆泰;洛克莎·雷迪;佐木马·山木甘;细川昭弘设计研发完成，并于2018-06-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统在说明书摘要公布了：描述了一种用于使基板相对于具有纵轴的一或多个沉积源移动的摆动设备。所述摆动设备包括：支撑主体，所述支撑主体用于保持所述基板；旋转机构，所述旋转机构耦接至所述支撑主体以使基板围绕旋转轴移动一角度，以将基板取向从传递或水平取向改变为处理区域处的处理或竖直取向；以及线性运动机构，所述线性运动机构耦接至所述支撑主体，以在所述基板处于处理取向时使所述基板相对于所述沉积源的纵轴平移。
本发明授权摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统在权利要求书中公布了：1.一种摆动设备10，所述摆动设备用于相对于具有纵轴31的一或多个竖直线性沉积源30移动基板20，所述摆动设备10包括： 支撑主体40，所述支撑主体位于真空腔室内用于保持所述基板20； 旋转机构42，所述旋转机构耦接到所述支撑主体40以使所述基板20围绕旋转轴44移动一角度12，以将所述基板的取向从水平传递取向I改变为在处理区域72处的竖直处理取向II，其中所述旋转机构42在所述真空腔室内在所述支撑主体40下方沿着所述旋转轴44延伸； 线性运动机构46，所述线性运动机构在所述真空腔室内耦接到所述支撑主体40并且位于所述旋转机构下方，以当所述基板20处于所述处理取向II时相对于所述沉积源30的所述纵轴31侧向平移所述基板20；和 保护单元50，所述保护单元保护所述旋转机构42和所述线性运动机构46两者以用于减少所述处理区域72中的颗粒。
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