深圳晶源信息技术有限公司闫歌获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114488707B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210064590.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备是由闫歌;丁明设计研发完成，并于2022-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及尤其涉及一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备，本方法包括如下步骤：提供包括多个掩模图形的初始版图；基于第一拆分规则将多个掩模图形拆分为有冲突图形和无冲突图形；基于第二拆分规则将有冲突图形分为第一部分掩模图形和第二部分掩模图形；基于第三拆分规则将无冲突图形分为第一尺寸掩模图形和第二尺寸掩模图形；分别将第一尺寸掩模图形和第二尺寸掩模图形中的其中一部分与第一部分掩模图形合并以获得第一版图、另一部分与第二部分掩模图形合并以获得第二版图，本发明提供的方案具有拆分速度快，拆分之后的两个版图形成的掩模曝光成像分辨率高的优点。
本发明授权一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法，用于将初始版图拆分成第一版图和第二版图，其特征在于，包括如下步骤： 提供初始版图，所述初始版图包括多个掩模图形； 基于预设的第一拆分规则将所述多个掩模图形拆分为有冲突图形和无冲突图形； 基于预设的第二拆分规则将所述有冲突图形分为第一部分掩模图形和第二部分掩模图形，所述第一部分掩模图形和所述第二部分掩模图形中相互的掩模图形之间无冲突； 基于预设的第三拆分规则将所述无冲突图形分为至少两种尺寸级别的第一尺寸掩模图形和第二尺寸掩模图形，所述第一尺寸掩模图形的最大尺寸大于所述第二尺寸掩模图形的最大尺寸；以及 分别将第一尺寸掩模图形和第二尺寸掩模图形中的其中一部分与第一部分掩模图形合并以获得第一版图、另一部分与第二部分掩模图形合并以获得第二版图。
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