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厦门大学蔡国雄获国家专利权

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龙图腾网获悉厦门大学申请的专利一种基于混合超构表面的低阈值光学双稳态开关获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116520596B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310511549.6,技术领域涉及:G02F1/03;该发明授权一种基于混合超构表面的低阈值光学双稳态开关是由蔡国雄;王彦;温雨嘉;柳清伙设计研发完成,并于2023-05-08向国家知识产权局提交的专利申请。

一种基于混合超构表面的低阈值光学双稳态开关在说明书摘要公布了:一种基于混合超构表面的低阈值光学双稳态开关,涉及光学双稳态开关器件。从下至上依次设有支撑衬底、均匀表面等离激元薄膜、低折射率克尔非线性介质薄膜和高折射率介质圆盘周期阵列;在混合超构表面的构型下,可同时产生电偶极谐振的镜面效应和表面等离激元谐振的耦合效应,将入射光的电场能量局域于所述低折射率克尔非线性介质薄膜,从而有效激发其克尔效应。当入射光强度持续增大时,低阈值光学双稳态开关可由“开”状态跳变为“关”状态;而反过来控制入射光强度持续减小时,低阈值光学双稳态开关可由“关”状态跳变为“开”状态。低阈值、大开关比、无偏振相关性、制备简易、兼容互补金属氧化物半导体工艺,可成为具备潜力的全关开关器件。

本发明授权一种基于混合超构表面的低阈值光学双稳态开关在权利要求书中公布了:1.一种基于混合超构表面的低阈值光学双稳态开关,其特征在于:从下到上依次设有支撑衬底1、均匀表面等离激元薄膜2、低折射率克尔非线性介质薄膜3和高折射率介质圆盘周期阵列4;可同时产生电偶极谐振的镜面效应和表面等离激元谐振的耦合效应,将入射光的电场能量局域于所述低折射率克尔非线性介质薄膜3,有效激发其克尔效应,从而获得双稳态开关功能; 所述均匀表面等离激元薄膜2采用介电常数实部为负值的金属材料或半导体材料制备; 所述低折射率克尔非线性介质薄膜3由具备三阶非线性光学系数的低折射率克尔非线性介质材料制备,其折射率小于2; 所述高折射率介质圆盘周期阵列4为呈正方形周期分布的高折射率介质圆盘形成的阵列,相邻圆盘之间的中心距离与周期一致。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人厦门大学,其通讯地址为:361005 福建省厦门市思明区思明南路422号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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