上海华力微电子有限公司何大权获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力微电子有限公司申请的专利一种接触层OPC方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116520648B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310487630.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种接触层OPC方法是由何大权;陈翰;魏芳设计研发完成，并于2023-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种接触层OPC方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种接触层OPC方法，包括在接触层目标图形中选择特征OPC图形，并选择相应的第一亚分辨率辅助图形得到第二亚分辨率辅助图形，以特征OPC图形对应的特征目标图形边为目标生成第三亚分辨率辅助图形，根据目标图形和第三亚分辨率辅助图形进行基于模型的OPC，得到最终OPC图形。本发明提供的接触层OPC方法，可以整体提高整体工艺窗口，避免OPC热点的产生，且通过在OPC处理流程中优化亚分辨率辅助图形，改善热点通孔图形的工艺窗口的同时，又不需要重复执行OPC流程，减少OPC方法优化流程及OPC出版时间。
本发明授权一种接触层OPC方法在权利要求书中公布了：1.一种接触层OPC方法，其特征在于，包括： 输入接触层的目标图形； 根据目标图形生成第一亚分辨率辅助图形； 根据目标图形和第一亚分辨率辅助图形进行第一次基于模型的OPC修正，得到第一OPC图形； 根据第一OPC图形选择特征OPC图形，并得到特征OPC图形对应的特征目标图形，所述特征OPC图形为目标图形经过第一次基于模型的OPC修正后，长宽比大于R的第一OPC图形，其中，1.8R2.5； 以特征目标图形的一边长为起始边，沿该边长的垂直方向以一拓展距离向外拓展，得到冲突检查区域； 筛选第一亚分辨率辅助图形中与冲突检查区域交叠或接触的第一子亚分辨率辅助图形； 第一亚分辨率辅助图形减去第一子亚分辨率辅助图形得到第二亚分辨率辅助图形； 根据特征目标图形和第二亚分辨率辅助图形，得到第三亚分辨率辅助图形； 根据目标图形和第三亚分辨率辅助图形进行第二次基于模型的OPC修正，得到第二OPC图形。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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