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龙图腾网获悉杭州环峻科技有限公司申请的专利抑制杂散光的光学系统设计方法、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116540405B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310623887.9，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权抑制杂散光的光学系统设计方法、设备及存储介质是由冯逸鹤;廖亦奇设计研发完成，并于2023-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本抑制杂散光的光学系统设计方法、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及一种抑制杂散光的光学系统设计方法、设备及存储介质，光学系统设计方法包括以下步骤：步骤S1、确认杂散光类型；步骤S2、根据杂散光类型，基于光阑视场角和子午平面内的相对孔径，绘制杂散光的光路图；步骤S3、根据步骤S2绘制的杂散光的光路图，得到特征光线及特征光线路径点；步骤S4、利用特征光线及特征光线路径点，计算杂散光评价函数；步骤S5、根据杂散光评价函数优化设计光学系统。本发明的抑制杂散光的光学系统设计方法能够实现以超大视场、极低或无杂散光干扰，成像清晰、稳定为主要优点的光学设计。

本发明授权抑制杂散光的光学系统设计方法、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种抑制杂散光的光学系统设计方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤S1、确认杂散光类型； 步骤S2、根据杂散光类型，基于光阑视场角和子午平面内的相对孔径，绘制杂散光的光路图； 步骤S3、根据步骤S2绘制的杂散光的光路图，得到特征光线及特征光线路径点； 其中，利用试探光线在经过全景环带光学系统头部结构任一包含某个特征光线路径点的光学表面时的落点与对应的特征光线路径点的垂轴距离来识别该试探光线是否为一特征光线， 即利用试探光线迭代寻找特征光线，试探光线落点与各路径点在所在表面上的垂轴距离记为： 其中，IURW为评价试探光线是否可认为是上方光线的指标，ILRW为评价试探光线是否可认为是下方光线的指标，yURW为上方光线路径点的垂直轴坐标，yLRW为下方光线路径点的垂轴坐标，y试探光线，URW所在表面为试探光线在对应的上方光线路径点所在光学表面的落点的垂轴坐标，y试探光线，LRW所在表面为试探光线在对应的下方光线路径点所在光学表面的落点的垂轴坐标； 上式中，根据具体杂散光类型和路径点的选定，定义IURW和ILRW的符号为：若试探光线落在表面有效孔径内为正，落在有效孔径外为负； 在IURW＝0时，该试探光线为上方光线，并对应一个光阑入射角在ILRW＝0时，该试探光线为下方光线，并对应一个光阑入射角 确定有效上方光线和有效下方光线，有效上方光线和有效下方光线的光阑视场角满足： 其中，θUR为有效上方光线的光阑视场，θLR为有效下方光线的光阑视场角，为使得试探光线经过第m个上方光线路径点的光阑视场角，为使得试探光线经过第n个下方光线路径点的光阑视场角； 步骤S4、利用特征光线及特征光线路径点，计算杂散光评价函数，具体包括： 步骤S41、构建上方评价函数CUR，上方评价函数为上方光线在每个下方光线路径点所在表面上的落点，与下方光线路径点的垂轴距离，公式为： |CURn|＝|yUR,LRWn所在表面-yLRWn|， 其中，CURn为基于第n个下方光线路径点的上方评价函数，yUR,LRWn所在表面为有效上方光线在第n个下方光线路径点所在表面上的落点的垂轴坐标，yLRWn为第n个下方光线路径点的垂轴坐标；根据具体杂散光类型和路径点的选定，定义CURn的符号为：若上方光线落在表面有效孔径内为正，落在有效孔径外为负； 步骤S42、构建下方评价函数CLR，下方评价函数为下方光线在每个上方光线路径点所在表面上的落点，与上方光线路径点的垂轴距离，公式为： |CLRm|＝|yLR,URWm所在表面-yURWm|， 其中，CLRm为基于第m个上方光线路径点的下方评价函数，yLR,URWm所在表面为有效下方光线在第m个上方光线路径点所在表面上的落点的垂轴坐标，yURWm为第m个上方光线路径点的垂轴坐标；根据具体杂散光类型和路径点的选定，定义CLRm的符号为：若下方光线落在表面有效孔径内为正，落在有效孔径外为负； 步骤S43、利用上方评价函数和下方评价函数，计算杂散光评价函数C，总评价函数为最小上方评价函数与最小下方评价函数中的较大值，公式为： C＝maxminCURn,minCLRm； 步骤S5、根据杂散光评价函数优化设计光学系统。

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