上海华力微电子有限公司袁海文获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力微电子有限公司申请的专利基于承载台的套刻精度修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116577968B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310580502.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权基于承载台的套刻精度修正方法是由袁海文;尹鹏腾;秦利鹏设计研发完成，并于2023-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于承载台的套刻精度修正方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基于承载台的套刻精度修正方法，包括：获取承载台表面的历史翘曲度数据及与其对应的基板在承载台上光刻后的历史套刻精度数据；构建历史翘曲度数据与历史套刻精度数据的映射关系，映射关系包括由承载台的翘曲度在基板的不同区域获得不同的套刻精度；检测承载台的翘曲度，根据映射关系，获得置于承载台上基板的不同区域的预测套刻精度，并基于预设套刻精度在基板上的不同区域选择相应的套刻精度补偿。本发明中，通过检测承载台翘曲度，利用映射关系对光刻时基板不同区域进行套刻精度补偿，不仅提高光刻工艺时的套刻精度，还可使载物台的使用寿命相对延长，以此降低成本及提高机台利用率。
本发明授权基于承载台的套刻精度修正方法在权利要求书中公布了：1.一种基于承载台的套刻精度修正方法，其特征在于，包括： 获取承载台表面的历史翘曲度数据及与所述历史翘曲度数据相对应的基板在所述承载台上光刻后的历史套刻精度数据，所述历史套刻精度数据包括测量所述历史翘曲度数据之前及之后经过所述承载台的各至少两片基板的套刻精度数据； 采用最小二乘法拟合所述历史翘曲度数据与所述历史套刻精度数据，以构建所述历史翘曲度数据与所述历史套刻精度数据的映射关系，所述映射关系包括由所述承载台的翘曲度在所述基板的不同区域获得不同的套刻精度； 检测所述承载台的翘曲度，根据所述映射关系，获得置于所述承载台上基板的不同区域的预设套刻精度，并基于所述预设套刻精度在所述基板上的不同区域选择相应的套刻精度补偿。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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