信越化学工业株式会社郡大佑获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利有机膜形成用组成物、图案形成方法、及化合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116693361B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310197024.X，技术领域涉及：C07C13/62；该发明授权有机膜形成用组成物、图案形成方法、及化合物是由郡大佑;岩森颂平设计研发完成，并于2023-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本有机膜形成用组成物、图案形成方法、及化合物在说明书摘要公布了：本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、及化合物。本发明提供能展现高蚀刻耐性、优良的扭转耐性、成膜性，且成为散逸气体的升华物成分少的有机膜形成用组成物、使用了此组成物的图案形成方法、及适合如此的有机膜形成用组成物的化合物。一种有机膜形成用组成物，含有下列通式1表示的化合物及有机溶剂。上述通式1中，X为下列通式2、3、5表示的X1～X3中的任一基团，亦可将2种以上的X予以组合使用。上述通式3中，W表示碳原子或氮原子，n1表示0或1、n2表示1～3的整数，R1独立地为下列通式4表示的任意的基团。上述通式5中，R2为氢原子或碳数1～4的烷基，R3为下列任意的基团。
本发明授权有机膜形成用组成物、图案形成方法、及化合物在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂有机膜形成用组成物，其特征为该抗蚀剂有机膜形成用组成物含有下列通式1表示的化合物及有机溶剂， 该通式1中，X为下列通式2、3、5表示的X1～X3中的任一基团，亦可将2种以上的X予以组合使用， 该通式3中，W表示碳原子或氮原子，n1表示0或1、n2表示1～3的整数，R1独立地为下列通式4表示的任意的基团， 该通式5中，R2为氢原子或碳数1～4的烷基，R3为下列的任意的基团，
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