北京信息科技大学何迪获国家专利权
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龙图腾网获悉北京信息科技大学申请的专利基于频谱集中程度引入重参数化的光场去噪方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116703770B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310684718.6，技术领域涉及：G06T5/70；该发明授权基于频谱集中程度引入重参数化的光场去噪方法和装置是由何迪;刘畅;邱钧;王甜甜设计研发完成，并于2023-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于频谱集中程度引入重参数化的光场去噪方法和装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于频谱集中程度引入重参数化的光场去噪方法和装置，其包括：步骤1，通过极小化集中程度度量函数，计算重参数化光场双平面间距Dre；步骤2，按照重参数化光场双平面间距Dre对带噪光场进行重参数化，输出重参数化之后的带噪光场；步骤3，使用hyperfan滤波器对重参数化后的带噪光场进行去噪，输出去噪后的重参数化光场。本发明能够有较好的去噪效果，同时能够较好地保持场景边缘和反光等信息。
本发明授权基于频谱集中程度引入重参数化的光场去噪方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种基于频谱集中程度引入重参数化的光场去噪方法，其特征在于，包括： 步骤1，通过下式1提供的极小化集中程度度量函数，计算重参数化光场双平面间距Dre fD＝αfD+fD1 式中，α为权重参数，fD为频谱支集两边界夹角的度量函数，其根据场景深度的变化描述为下式2和3，fD为频谱支集对称程度度量函数，其描述为下式4； 1场景最大深度Zmax和场景最小深度Zmin同时满足的情形下： 其中，D为光场的初始双平面间距，A和B均为用于简化公式的中间参数，A＝Zmax+Zmin 2场景最大深度Zmax和场景最小深度Zmin同时满足的情形下： 步骤2，按照重参数化光场双平面间距Dre对带噪光场进行重参数化，输出重参数化之后的带噪光场； 步骤3，使用hyperfan滤波器对重参数化后的带噪光场进行去噪，输出去噪后的重参数化光场。
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