翔实光电科技(昆山)有限公司韩伟军获国家专利权
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龙图腾网获悉翔实光电科技(昆山)有限公司申请的专利一种低刻蚀度玻璃蒙砂粉、玻璃蒙砂液及其制备方法和蒙砂玻璃获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117125901B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311184064.7，技术领域涉及：C03C15/00；该发明授权一种低刻蚀度玻璃蒙砂粉、玻璃蒙砂液及其制备方法和蒙砂玻璃是由韩伟军;杨宇翔;穆广达;黄小翠;董孟洋;黄忠祥设计研发完成，并于2023-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低刻蚀度玻璃蒙砂粉、玻璃蒙砂液及其制备方法和蒙砂玻璃在说明书摘要公布了：本发明提供了一种低刻蚀度玻璃蒙砂粉、玻璃蒙砂液及其制备方法和蒙砂玻璃，属于玻璃表面处理技术领域。本发明提供的低刻蚀度玻璃蒙砂粉包括第一组分和第二组分，所述第一组分和第二组分的质量比为42～46：54～58；以质量份数计，所述第一组分包括以下制备原料：含氟化合物24.7～27.8份、无机硫酸盐50～56.5份、酸度调节剂14～16份、氯化钠2.2～5.3份和十二烷基磺酸钠0.25～1.5份；所述含氟化合物包括氟化物、氟硅酸盐和氟化氢盐中的至少一种；所述第二组分为氟化氢铵。将本发明提供的低刻蚀度玻璃蒙砂粉配制成玻璃蒙砂液，对透明玻璃进行蒙砂处理，所得蒙砂玻璃表面刻蚀度较低且分布均匀，透光率良好。
本发明授权一种低刻蚀度玻璃蒙砂粉、玻璃蒙砂液及其制备方法和蒙砂玻璃在权利要求书中公布了：1.一种玻璃蒙砂液，其特征在于，包括低刻蚀度玻璃蒙砂粉和酸性溶剂，所述低刻蚀度玻璃蒙砂粉由第一组分和第二组分组成； 以质量计，所述第一组分由以下制备原料组成： 5.456g氟化氢钾；3.96g氟硅酸镁；2.64g氟化氢钠；7.568g氟化钡；7.92g氟化钾；11.264g氟硅酸锌；1.76g氟化氢铵；7.04g氟化铵；47.872g硫酸钡；48.048g硫酸钾；10.56g草酸；15.84g氨基磺酸；5.192g氯化钾和0.88g十二烷基磺酸钠； 所述第二组分为224g氟化氢铵； 所述酸性溶剂为浓盐酸，所述浓盐酸的质量分数为31%； 所述低刻蚀度玻璃蒙砂粉和酸性溶剂的用量比为400g：120mL。
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