同济大学郑雄获国家专利权
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龙图腾网获悉同济大学申请的专利一种富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料在催化降解抗生素中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117619407B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311425361.6，技术领域涉及：B01J27/043；该发明授权一种富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料在催化降解抗生素中的应用是由郑雄;孙彭亮;吴瑒;陈银广;牛秋奇;王朴淳;王彦朝设计研发完成，并于2023-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料在催化降解抗生素中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料在催化降解抗生素中的应用。本发明将富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料用于去除污水中抗生素，其中抗生素是电子供体，PMS是电子受体，Ce‑Co3S4‑x纳米催化剂中硫空位缺陷作为电子中转站，缺陷诱导了更强的电子‑振动耦合，捕获并促进活性位点诱导PMS赋予高氧化还原电位，当具有丰富电子的抗生素接近被催化剂激活的*PMS分子时，形成了电子供体‑介体‑受体的三元体系，直接从抗生素上夺取电子来诱导氧化，促进PMS分子中过氧键断裂引发链式反应，从而将抗生素氧化降解。本发明能够实现在10min内实现几乎100％的四环素的去除率，15min内实现几乎100％的磺胺甲恶唑的去除率。
本发明授权一种富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料在催化降解抗生素中的应用在权利要求书中公布了：1.一种富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料在催化降解抗生素中的应用，其特征在于，加入富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料和过氧单硫酸盐进行催化降解抗生素； 所述富硫缺陷铈单原子掺杂硫化钴纳米材料的制备方法包括以下步骤： 提供ZIF-67纳米立方体； 将所述ZIF-67纳米立方体和硫化剂混合分散在溶剂中，反应得到中间体1； 将所得中间体1进行煅烧，得到中间体2； 将所得中间体2和铈盐分散于溶剂中，加入还原剂，反应即得。
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