复旦大学赵东元获国家专利权
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龙图腾网获悉复旦大学申请的专利一种MXene量子点及其高产率制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117865157B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410100461.X，技术领域涉及：C01B32/90；该发明授权一种MXene量子点及其高产率制备方法与应用是由赵东元;晁栋梁;卜凡兴;周万海;马冰设计研发完成，并于2024-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种MXene量子点及其高产率制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种MXene量子点及其高产率制备方法与应用，制备方法包括以下步骤：S1：利用刻蚀剂和插层剂对MAX相物质进行处理制备MXene纳米片；S2：利用氧化剂和酸性刻蚀剂对MXene纳米片处理制备多孔介孔MXene纳米片；S3：在保护气氛下对多孔介孔MXene纳米片进行破碎处理，从而制备得到MXene量子点。与现有技术相比，本发明制备方法可解决目前制备MXene量子点所存在的产率低以及难以分离的问题，所制备的MXene可应用在生物医学、电催化、超级电容器及电池等领域。
本发明授权一种MXene量子点及其高产率制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种MXene量子点的高产率制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1：利用刻蚀剂和插层剂对MAX相物质进行处理制备MXene纳米片； S2：利用氧化剂和酸性刻蚀剂对MXene纳米片处理制备多孔MXene纳米片； S3：在保护气氛下对多孔MXene纳米片进行破碎处理制备MXene量子点； 步骤S3利用非氧化性腐蚀剂在保护气氛下对多孔MXene纳米片进行破碎处理制备MXene量子点； 所述非氧化性腐蚀剂包括有机强碱。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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