维沃移动通信有限公司唐后勋获国家专利权
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龙图腾网获悉维沃移动通信有限公司申请的专利屏蔽盖及其制作方法、电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118695567B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410714666.7，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权屏蔽盖及其制作方法、电子设备是由唐后勋设计研发完成，并于2024-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本屏蔽盖及其制作方法、电子设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种屏蔽盖及其制作方法、电子设备，属于电子技术领域。其中屏蔽盖包括屏蔽盖本体，所述屏蔽盖本体的至少一侧边经切割形成裸露区域，所述裸露区域的状态包括第一状态和第二状态中的至少之一，其中，在所述第一状态下，所述裸露区域沿对应侧边的长度方向连续，且在所述屏蔽盖本体的厚度方向上，所述裸露区域的尺寸小于所述屏蔽盖本体的厚度；在所述第二状态下，所述裸露区域沿对应侧边的长度方向间断；电镀层，所述电镀层覆盖所述屏蔽盖本体的除所述裸露区域之外的区域。
本发明授权屏蔽盖及其制作方法、电子设备在权利要求书中公布了：1.一种屏蔽盖，其特征在于，包括： 屏蔽盖本体，所述屏蔽盖本体的至少一侧边经切割形成沿所述侧边的厚度方向延伸的裸露区域，所述裸露区域的状态包括第一状态和第二状态中的至少之一，其中，在所述第一状态下，所述裸露区域沿对应侧边的长度方向连续，且在所述屏蔽盖本体的厚度方向上，所述裸露区域的尺寸小于所述屏蔽盖本体的厚度；在所述第二状态下，所述裸露区域沿对应侧边的长度方向间断； 电镀层，所述电镀层覆盖所述屏蔽盖本体的除所述裸露区域之外的区域。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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