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龙图腾网获悉天津大学申请的专利一种三维图像辅助XRF光谱分析的磨粒颗粒度效应校正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118837396B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411127514.3，技术领域涉及：G01N23/223；该发明授权一种三维图像辅助XRF光谱分析的磨粒颗粒度效应校正方法是由傅骁;王宽;段发阶;蒋佳佳;王新星;牛广越;张艺卓;黄锦幡设计研发完成，并于2024-08-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种三维图像辅助XRF光谱分析的磨粒颗粒度效应校正方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种三维图像辅助XRF光谱分析的磨粒颗粒度效应校正方法，S1.建立磨粒颗粒度效应校正模型：S2.利用磨粒颗粒度效应校正装置同时获取辐照区域内的磨粒三维图像和XRF光谱数据；S3.通过计算机处理磨粒三维图像，获得辐照区域内的磨粒形态参数；S4.通过计算机处理XRF光谱数据，获得磨粒内待分析元素的实际特征X射线荧光强度Ii'；S5.将磨粒形态参数代入磨粒颗粒度效应校正模型，获得待分析元素理论特征X射线荧光强度Ii；S4.根据Sherman方程计算待分析元素含量Ci，获得磨粒内待分析元素的含量，实现磨粒颗粒度效应校正。

本发明授权一种三维图像辅助XRF光谱分析的磨粒颗粒度效应校正方法在权利要求书中公布了：1.一种三维图像辅助XRF光谱分析的磨粒颗粒度效应校正方法，其特征在于，包括： S1.建立磨粒颗粒度效应校正模型： S101.根据Sherman方程，构建磨粒的荧光强度与元素含量的关系表达式； S102.建立引入磨粒形态参数后的X射线荧光理论模型； S103.计算辐照区域内磨粒总质量； S104.基于辐照区域内磨粒总质量与辐照区域理论荧光强度呈现正相关关系；利用多元线性回归方法获取辐照区域磨粒形态参数对荧光强度的表示； S105.利用同一元素、不同形态的磨粒样品，通过若干组实验，建立数据集，基于最小二乘法或极大似然估计实现回归系数估计，得到形态参数对荧光强度的量化影响关系，代入X射线荧光理论模型，实现荧光强度的修正； S2.利用磨粒颗粒度效应校正装置同时获取辐照区域内的磨粒三维图像和XRF光谱数据； S3.通过计算机处理磨粒三维图像，获得辐照区域内的磨粒形态参数； S4.通过计算机处理XRF光谱数据，获得磨粒内待分析元素的实际特征X射线荧光强度Ii'； S5.将磨粒形态参数代入磨粒颗粒度效应校正模型，获得待分析元素理论特征X射线荧光强度Ii； S4.根据Sherman方程计算待分析元素含量Ci，获得磨粒内待分析元素的含量，实现磨粒颗粒度效应校正。

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