中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院梁秀兵获国家专利权
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龙图腾网获悉中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院申请的专利一种高硬度高反射率碳化铪薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119121166B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411166968.1，技术领域涉及：C23C14/50；该发明授权一种高硬度高反射率碳化铪薄膜及其制备方法是由梁秀兵;胡振峰;井致远;张志彬;何鹏飞;孙川;王荣;邢悦;吴蒙恩设计研发完成，并于2024-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高硬度高反射率碳化铪薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种高硬度高反射率碳化铪薄膜及其制备方法。该方法包括以下步骤：1靶材位置：放置石墨靶、铪靶和衬底；2衬底表面预处理：将衬底进行超声清洗后干燥；3腔室抽真空与衬底加热：将腔室抽至高真空并加热衬底；4靶材预清洗：向腔室内通入惰性气体并保持工作气压，进行靶材的预溅射清洗；5沉积碳化铪薄膜：向腔室内连续通入惰性气体并保持工作气压、衬底温度和衬底自转速度，采用脉冲发生器调制中频脉冲波形施于所述石墨靶和所述铪靶上，保持电流值并进行镀膜处理。本发明方法能够制备出具有低碳空位浓度的单相岩盐结构碳化铪薄膜，其兼具高硬度和宽带高反射性能。
本发明授权一种高硬度高反射率碳化铪薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高硬度高反射率碳化铪薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤： 1靶材位置：放置石墨靶、铪靶和衬底； 2衬底表面预处理：将衬底进行超声清洗后干燥； 3腔室抽真空与衬底加热：将腔室抽至高真空并加热衬底； 4靶材预清洗：向腔室内通入惰性气体并保持工作气压，进行靶材的预溅射清洗； 5沉积碳化铪薄膜：向腔室内连续通入惰性气体并保持工作气压、衬底温度和衬底自转速度，采用脉冲发生器调制中频脉冲波形施于所述石墨靶和所述铪靶上，保持电流值并进行镀膜处理；采用中频脉冲直流磁控共溅射石墨靶和铪靶制备，中频脉冲频率为50～150kHz，中频脉冲宽度为0.2～0.6μs，施加于石墨靶的电流为0.3～0.6A，功率为80～180W，施加于铪靶的电流为0.3～0.6A，功率为50～125W。
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