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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种针对电场均匀排布与光场相互协调的光电化学机械抛光半导体衬底的装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119188585B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411560281.6，技术领域涉及：B24B37/00；该发明授权一种针对电场均匀排布与光场相互协调的光电化学机械抛光半导体衬底的装置及方法是由董志刚;康仁科;布尔列斯·万里;赵杨;杨帆;高尚设计研发完成，并于2024-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种针对电场均匀排布与光场相互协调的光电化学机械抛光半导体衬底的装置及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种针对电场均匀排布与光场相互协调的光电化学机械抛光半导体衬底的装置及方法，包括机架、机体单元、抛光盘组件、导电基座、LED紫外光源、电化学工作站和移动组件，机体单元用于抛光盘组件的加载和卸载，电化学工作站、LED光源电源分别在加工过程中为导电基座和LED紫外光源提供电源，LED紫外光源固定在抛光盘上，在抛光盘对工件抛光过程中一同作用在加工中的半导体衬底工件上，半导体衬底工件粘结在导电基座之上。本发明LED光源直接照射在加工工件表面，有效缩短光源与抛光液之间的距离，提高光场的作用，同时调节沿半径不同方向上的光场强度，与施加在工件上的电场一同作用保证工件表面的氧化均匀，加工后的工件的平整度有所保证。

本发明授权一种针对电场均匀排布与光场相互协调的光电化学机械抛光半导体衬底的装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种针对电场均匀排布与光场相互协调的光电化学机械抛光半导体衬底的装置，其特征在于，包括：机架、机体单元、抛光盘组件、导电基座、LED紫外光源、电化学工作站和移动组件，所述机体单元用于抛光盘组件的加载和卸载，所述机体单元、电化学工作站、LED光源电源和移动组件均安装在机架上，电化学工作站、LED光源电源分别用于在加工过程中为导电基座和LED紫外光源提供电源，所述LED紫外光源固定在抛光盘上，在抛光盘对工件抛光过程中一同作用在加工中的半导体衬底工件上，通过粘接的方式将半导体衬底工件固定在导电基座之上，通过移动组件实现机体单元与待加工件位置的调节； 所述抛光盘组件包括抛光盘、抛光垫、所述LED紫外光源、水冷盘、导电柱和六角螺母，所述抛光盘靠近中心位置设有预设半径的环形沟槽，加入的抛光液基于环形沟槽滴加在半导体衬底工件上，在盘面上设有放射状排布的若干孔洞，使得LED紫外光源能直接照射在加工半导体衬底上，且在沿半径方向的孔洞之间分布通孔，使得滴加在沟槽里的抛光液通过沿半径方向的通孔滴落在加工的半导体衬底上，实现阴阳极之间的电通路，抛光垫通过粘接的方式固定在抛光盘工作面，LED紫外光源与水冷盘为一体结构，水冷盘用于在加工过程中解决发光过热的问题，其中LED紫外光源的分布方式与抛光盘上的孔洞的分布保持一致，水冷盘上的三个导电柱与中间的六角螺母相连接，在加工过程中为LED灯提供稳定的电源，同时控制沿半径方向的光照的强弱，六角螺母与抛光盘通过螺栓固定在一起，保证与抛光盘同轴旋转。

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