西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司靳凌翔获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请的专利硅片抛光方法和硅片抛光设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119526238B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411801349.5，技术领域涉及：B24B29/02；该发明授权硅片抛光方法和硅片抛光设备是由靳凌翔设计研发完成，并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本硅片抛光方法和硅片抛光设备在说明书摘要公布了：本申请提供了硅片抛光方法和硅片抛光设备，硅片抛光设备的模板组件包括薄膜基部和环部，所述环部自所述薄膜基部的边缘延伸以形成用于保持硅片的凹槽，所述环部设置有伸缩单元，所述方法包括：在所述硅片的抛光过程中，检测所述环部的磨损应力，以得到应力数据；在所述应力数据未处于目标数值范围内的情况下，调整所述伸缩单元的长度，以改变所述凹槽的深度。本申请通过监测环部的磨损应力并自动调整伸缩单元的长度，实现了TA尺寸的自动调节，提高了设备的自动化水平和稼动率，能够有效减少TA因磨损应力过大而导致的过度磨损，延长了TA的使用寿命。此外，自动调控TA尺寸，能够保障硅片边缘的去除量在合理水平，提升硅片的边缘平整度和产品质量。
本发明授权硅片抛光方法和硅片抛光设备在权利要求书中公布了：1.一种硅片抛光方法，其特征在于，硅片抛光设备的模板组件包括薄膜基部和环部，所述环部自所述薄膜基部的边缘延伸以形成用于保持硅片的凹槽，所述环部设置有伸缩单元，所述方法包括： 在所述硅片的抛光过程中，检测所述环部的磨损应力，以得到应力数据； 在所述应力数据未处于目标数值范围内的情况下，调整所述伸缩单元的长度，以改变所述凹槽的深度； 所述方法还包括：在对所述硅片进行抛光之前，利用边缘平整度自动化模型计算得到所述伸缩单元的目标长度；将所述伸缩单元的长度控制为所述目标长度；所述边缘平整度自动化模型的输入数据包括所述模板组件的尺寸数据、寿命数据以及所述硅片的目标边缘平整度数据； 所述方法还包括：接收所述硅片的实际边缘平整度数据；利用所述实际边缘平整度数据，更新所述边缘平整度自动化模型的模型参数。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司，其通讯地址为：710065 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励