深圳国微芯科技有限公司魏丽洁获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳国微芯科技有限公司申请的专利掩模优化方法、电子设备及计算机可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119596632B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411553645.8，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权掩模优化方法、电子设备及计算机可读存储介质是由魏丽洁设计研发完成，并于2024-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模优化方法、电子设备及计算机可读存储介质在说明书摘要公布了：掩模优化方法、电子设备及计算机可读存储介质，属于半导体领域，为了解决局部和全局性能之间的非线性及权衡问题，技术要点是包括确定规则集；采样的金属层片段通过ILT引擎处理，生成准优化的连续透射掩模CTM，用于规则分布值初始化；使用光刻感知的指数自然进化策略优化规则分布值；优化后的规则分布值用于测试图形片段的生成次分辨率辅助特征SRAF和基于模型的光学邻近效应校正OPC，效果是能够提高光刻性能和计算效率。
本发明授权掩模优化方法、电子设备及计算机可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种掩模优化方法，其特征在于，包括 确定规则集； 采样的金属层片段通过ILT引擎处理，生成准优化的连续透射掩模CTM，用于规则分布值初始化； 使用光刻感知的指数自然进化策略优化规则分布值； 优化后的规则分布值用于测试图形片段的生成次分辨率辅助特征SRAF和基于模型的光学邻近效应校正OPC； 使用光刻感知的指数自然进化策略优化规则分布值，包括 通过光刻感知的自然梯度方法优化规则分布参数，其中，规则分布参数的更新朝着最大程度减少期望光刻代价的方向进行，同时在每步中对信息增益施加约束；其中，通过自然指数扩展进行自然梯度更新； 塑造基于相对排名的适应函数，用于修正梯度估计，以保持不同图形片段之间的规模不变性和排名不变性；其中，在测试图形片段上进行自适应采样。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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