杭州格林达电子材料股份有限公司;合肥格林达电子材料有限公司胡涛获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州格林达电子材料股份有限公司;合肥格林达电子材料有限公司申请的专利一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119781262B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510243258.2，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物是由胡涛;邢攸美;高立江;王小栋;方伟华;何婷茹;赵禹鸣;章帅迪;洪明卫;施珂;李林佳设计研发完成，并于2025-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物在说明书摘要公布了：本发明公开了一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物，包括有机胺，质子性有机溶剂，非质子性有机溶剂，添加剂和表面活性剂；所述添加剂包括Al缓蚀剂、金属电位调节剂和表面亲水性改善剂；本发明抗蚀剂剥离液组合物成分环保，所用有机胺对于光刻胶攻击作用强，剥离性能好，质子性有机溶剂和非质子性有机溶剂的组合使用有利于增强剥离液对于光刻胶的溶解和清洗性能，降低剥离和水洗过程中光刻胶的析出，提高药液使用寿命。三类添加剂之间存在较好的协同作用，剥离和水洗过程中光刻胶不易黏附在ITO等制程层表面，剥离液对Cu膜层或Al膜层均无腐蚀，保证剥离液对于Cu制程、Al制程和ITO制程等多制程的兼容性，有效降低产线工艺的复杂性，降低生产成本。
本发明授权一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物在权利要求书中公布了：1.一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包括2～8%重量份的有机胺，25～70%重量份的质子性有机溶剂，25～70%重量份的非质子性有机溶剂，0.3～3%重量份的添加剂和0.1～0.5%重量份的表面活性剂；所述添加剂包括0.1～1%重量份的Al缓蚀剂、0.1～1%重量份的金属电位调节剂和0.1～1%重量份的表面亲水性改善剂； 所述表面亲水性改善剂为含有羟基的氨基酸铵盐，包括L-苏氨酸铵，丝氨酸铵，酪氨酸铵中的一种或多种。
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