江苏微导纳米科技股份有限公司籍伟杰获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏微导纳米科技股份有限公司申请的专利一种蒸镀膜厚监测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119980173B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510402562.7，技术领域涉及：C23C14/54；该发明授权一种蒸镀膜厚监测方法及系统是由籍伟杰;陈少炜;张鹤;左敏;赵昂璧;陈佳男设计研发完成，并于2025-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种蒸镀膜厚监测方法及系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种蒸镀膜厚监测方法及系统，蒸镀膜厚监测方法包括：根据石英晶振探头在工作时间内的震荡频率信号，得到工作时间内基片的第一膜厚增量；根据工作时间内基片在镀膜前后测得的第一光学信号，以及工作时间内基片的第一膜厚增量，得到光学系数；根据间歇时间内基片在镀膜前后测得的第二光学信号，以及光学系数，得到间歇时间内基片的第二膜厚增量；石英晶振探头被配置为：具有交替衔接的工作时间和间歇时间，石英晶振探头在间歇时间内蒸镀的速率小于其在工作时间内蒸镀的速率。本申请提供的蒸镀膜厚监测方法及系统，解决了现有技术中整套晶振膜厚仪系统需要较频繁地更换石英晶振探头，会对连续生产造成影响，使用成本比较高的问题。
本发明授权一种蒸镀膜厚监测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种蒸镀膜厚监测方法，其特征在于，所述方法包括： 根据石英晶振探头在工作时间内的震荡频率信号，得到所述工作时间内基片的第一膜厚增量； 根据所述工作时间内所述基片在镀膜前后测得的第一光学信号，以及所述工作时间内所述基片的第一膜厚增量，得到光学系数； 根据间歇时间内所述基片在镀膜前后测得的第二光学信号，以及所述光学系数，得到所述间歇时间内所述基片的第二膜厚增量； 其中，所述石英晶振探头被配置为：具有交替衔接的工作时间和间歇时间，所述石英晶振探头在所述间歇时间内蒸镀的速率小于其在所述工作时间内蒸镀的速率。
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