东京毅力科创株式会社舆水地盐获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置、电源系统和频率控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120345350B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380080885.8，技术领域涉及：H05H1/46；该发明授权等离子体处理装置、电源系统和频率控制方法是由舆水地盐设计研发完成，并于2023-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置、电源系统和频率控制方法在说明书摘要公布了：在本发明的等离子体处理装置中，高频电源能够改变电偏置的波形周期内的多个第1时间点的源高频电功率的源频率，对由多个第1时间点分割的波形周期内的多个第1分割时段各自中的源频率进行插补，并确定最能够抑制源高频电功率的反射程度的源频率的第1时间变化模式。高频电源能够使波形周期内的多个第2时间点的源频率相对于第1时间模式或其派生模式改变，并且，对由多个第2时间点分割的波形周期内的多个第2分割时段各自中的源频率进行插补，并确定最能够抑制源高频电功率的反射程度的波形周期中的源频率的第2时间变化模式。
本发明授权等离子体处理装置、电源系统和频率控制方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括： 腔室； 设置在所述腔室内的基片支承部； 高频电源，其能够供给源高频电功率以在所述腔室内从气体生成等离子体；和 偏置电源，其能够向所述基片支承部供给具有波形周期的电偏置， 所述高频电源构成为： 能够改变所述波形周期内的多个第1时间点各自的所述源高频电功率的源频率，并使用该多个第1时间点各自的该源频率和由该多个第1时间点分割的该波形周期的多个第1分割时段各自中的被插补的源频率，来确定最能够抑制所述源高频电功率的反射程度的所述波形周期中的所述源频率的第1时间变化模式，并且， 能够使所述波形周期内的多个第2时间点各自的所述源高频电功率的源频率相对于所述第1时间变化模式改变或相对于根据该第1时间变化模式生成的所述源频率的时间变化模式改变，并使用该多个第2时间点各自的该源频率和由该多个第2时间点分割的该波形周期的多个第2分割时段各自中的被插补的源频率，来确定最能够抑制所述源高频电功率的反射程度的所述波形周期中的所述源频率的第2时间变化模式， 所述多个第2分割时段的个数比所述多个第1分割时段的个数多。
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