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龙图腾网获悉苏州苏大维格科技集团股份有限公司申请的专利浅槽型图文结构、有色立体图像纳米印刷制品及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120356396B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510815432.6，技术领域涉及：G09F3/02；该发明授权浅槽型图文结构、有色立体图像纳米印刷制品及制备方法是由陈林森;魏国军;任家安;朱鸣;杨颖;刘晓宁;张瑾;周小红;乔文设计研发完成，并于2025-06-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本浅槽型图文结构、有色立体图像纳米印刷制品及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种浅槽型图文结构、一种有色立体图像纳米印刷制品及其制备方法。一种浅槽型图文结构包括：基材层、至少一层疏水图文层、纳米颜料层；所述疏水图文层包括至少一个图文单元，所述图文单元包括复数个微纳结构，所述微纳结构为凹槽，或所述微纳结构上设置有凹槽，或相邻所述微纳结构间隙形成凹槽；所述凹槽内设置纳米颜料层，所述纳米颜料层包括纳米颜料颗粒，所述纳米颜料颗粒与所述凹槽的表面通过范德华力键合，形成界面吸附,用于呈现颜色。由于是界面吸附，凹槽内无需填满，减少了材料的使用，同时界面吸附的牢度更大，因此可以做浅槽型的凹槽，疏水图文层的厚度较小。且使用纳米颜料颗粒，而非油墨，避免了有机溶剂的使用，降低了环境污染风险，符合可持续发展的要求。

本发明授权浅槽型图文结构、有色立体图像纳米印刷制品及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种浅槽型图文结构，其特征在于，包括：基材层、至少一层疏水图文层、纳米颜料层；所述疏水图文层设置于所述基材层的一侧，所述疏水图文层包括至少一个图文单元，所述图文单元包括复数个微纳结构，所述微纳结构为凹槽，或所述微纳结构上设置有凹槽，或相邻所述微纳结构间隙形成凹槽；所述凹槽内设置纳米颜料层，所述纳米颜料层包括纳米颜料颗粒，所述纳米颜料颗粒与所述凹槽的表面通过范德华力键合，形成界面吸附,用于呈现颜色； 所述凹槽的宽度范围为0.5μm-10μm，并形成毛细通道； 所述凹槽的表面具有粗糙度，并存在的纳米级凹凸； 所述纳米颜料颗粒具有疏水性； 所述浅槽型图文结构的制备方法，包括： 步骤S1：提供基材层，在基材层一侧涂布胶层；步骤S2：提供图文结构模版，使用图文结构模版压印，固化，形成疏水图文层；提供水性纳米颜料混合液；在所述疏水图文层的图文单元填充水性纳米颜料混合液，并烘干，水分蒸发后留存的纳米颜料颗粒与凹槽表面通过范德华力进行键合，形成纳米颜料层；步骤S3：清洗所述疏水图文层远离基材层的一侧，使得在附着在非凹槽区的纳米颜料颗粒清洗干净，并烘干。

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