苏州皓申智能科技有限公司吴廷斌获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州皓申智能科技有限公司申请的专利一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120871537B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511375510.1，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物是由吴廷斌;杨欣;请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物，包括含氟树脂、光引发剂、交联剂、流平剂和溶剂；所述含氟树脂包括如下所示结构：；其中，所述R选自氢、羟基、甲氧基、C1‑C6直链或支链烷基、或C1‑C3甲氧基羧基。本发明光刻胶组合物中含氟树脂采用对称结构，均匀分布，使得含氟基团两侧作用力一致，应用于光刻胶组合物，适用于硅片湿法蚀刻工艺，经过涂布、曝光、显影、烘烤后，在氢氟酸体系的蚀刻液中对硅进行蚀刻，可有效抵抗外来刻蚀液体系的侵蚀，蚀刻深度可达50μm，且蚀刻过程中光刻胶和底材的硅结合力好，不产生浮胶、掉胶等现象。
本发明授权一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物在权利要求书中公布了：1.一种抗氢氟酸蚀刻的光刻胶组合物，其特征在于，包括含氟树脂、光引发剂、交联剂、流平剂和溶剂；所述含氟树脂包括如下所示结构： ； 其中，所述R选自氢、羟基、甲氧基、C1-C6直链或支链烷基、或C1-C3甲氧基羧基。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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