畅的新材料科技(上海)有限公司戴禹梁获国家专利权
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龙图腾网获悉畅的新材料科技(上海)有限公司申请的专利纳米粉体制备过程中电极剩余长度检测与控制方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120885696B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511404580.5，技术领域涉及：B22F9/14；该发明授权纳米粉体制备过程中电极剩余长度检测与控制方法及设备是由戴禹梁;管晓纳;裴思鲁;董建平设计研发完成，并于2025-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本纳米粉体制备过程中电极剩余长度检测与控制方法及设备在说明书摘要公布了：本发明涉及工艺调控的技术领域，具体公开了一种纳米粉体制备过程中电极剩余长度检测与控制方法及设备。该方法中，记录电极在不同高度H时，一段时间t内电弧平均电压U，获得不同高度H对应的电弧平均电场强度EH；并且模拟电极鞘气出口与熔池的距离h与电极鞘气压力P之间关系式；再记录电极在某一高度H时的电弧电压U’以及电极鞘气压力P，从而计算出电弧长度Larc，将电极鞘气压力P代入公式可计算得到h；电极鞘气出口与熔池的距离h扣除电弧长度Larc即为电极长度Lele。本申请通过系统自带仪器，实现了不停机状态下不间断在线监测物料深度和电极长度。
本发明授权纳米粉体制备过程中电极剩余长度检测与控制方法及设备在权利要求书中公布了：1.纳米粉体制备过程中电极剩余长度检测与控制方法，其特征在于：包括如下步骤： S1、在系统刚启动时，记录不同高度H时，一段时间t内电弧平均电压U，获得不同高度H对应的电弧平均电场强度EH，EH、H、U的关系满足公式1：EH=UH0-D0-a-Lele0； 其中，a为电极升降装置夹持在电极的高度位置，在电极安装时应当予以记录并作为预设值，H0为电极初始高度，D0为物料的铺设厚度，Lele0为电极初始长度； 模拟电极鞘气出口与熔池的距离h与电极鞘气压力P之间关系式，h、P满足公式2：h=A·PB+W，A、B和W均为经验参数； S2、记录电极在某一高度H’时的电弧电压U’以及电极鞘气压力P，从而计算出电弧长度Larc，Larc=U’EH； 将电极鞘气压力P代入公式2中，可计算得到h； 电极鞘气出口与熔池的距离h扣除电弧长度Larc即为电极长度Lele，即Lele=h-Larc。
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