上海邦芯半导体科技有限公司王士京获国家专利权
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龙图腾网获悉上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利一种光学眼镜内部三角光栅结构及其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120891574B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511403609.8,技术领域涉及:G02B5/18;该发明授权一种光学眼镜内部三角光栅结构及其制造方法是由王士京;吴倩;朱佳乐;何德钦;王晓雯;涂乐志;徐兵设计研发完成,并于2025-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学眼镜内部三角光栅结构及其制造方法在说明书摘要公布了:本申请公开了一种光学眼镜内部三角光栅结构及其制造方法,包括在位于功能层上的非金属掩膜层上形成压印胶图形并进行第一处理去除毛刺,通过压印胶图形在功能层上形成第一掩膜图形并进行第二处理形成第一氧化物层,在第一掩膜图形的两侧侧面上形成表面光滑的侧墙结构以组成第二掩膜图形,通过第二掩膜图形对功能层进行刻蚀,至第一氧化物层被完全刻蚀消耗,重复执行组成第二掩膜图形和对功能层进行刻蚀的过程,直至第一掩膜图形被完全刻蚀消耗,在功能层上形成多个侧壁光滑的三角形光栅结构。本申请能降低工艺难度,并实现侧壁的光滑处理,适用于增强光学性能,提高衍射效率及长期稳定性。
本发明授权一种光学眼镜内部三角光栅结构及其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种光学眼镜内部三角光栅结构的制造方法,其特征在于,依次包括: a在功能层上形成非金属掩膜层; b在所述非金属掩膜层上形成多个三角形压印胶图形; c采用第一工艺气体,对所述压印胶图形的表面进行第一处理,以去除毛刺; d通过所述压印胶图形,对所述非金属掩膜层进行刻蚀图形化,在所述功能层上形成多个三角形第一掩膜图形; e采用第二工艺气体,对所述第一掩膜图形的表面进行第二处理,形成第一氧化物层; f采用原子层沉积工艺,在所述第一掩膜图形的表面上形成第二氧化物层; g对所述第二氧化物层进行回刻,在所述第一掩膜图形的两侧侧面上形成表面光滑的侧墙结构,所述第一掩膜图形、所述第一氧化物层和所述侧墙结构组成侧面光滑的第二掩膜图形; h通过所述第二掩膜图形,对所述功能层的露出表面进行刻蚀,直至所述第一氧化物层被完全刻蚀消耗; 重复执行e至h,直至所述第一掩膜图形被完全刻蚀消耗,并在所述第一掩膜图形下方的所述功能层上形成多个三角形光栅结构,且使所述第二掩膜图形的侧面光滑形貌通过图形转移传递至所述光栅结构的两侧侧壁上。
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