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龙图腾网获悉嘉兴大学申请的专利一种耐磨耐刮花的防辐射皮革获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223618374U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422685845.0，技术领域涉及：B32B3/08；该实用新型一种耐磨耐刮花的防辐射皮革是由王世有;洪新球;范子璇;陈健;李阳;束加山;高子萌;陆彦朱设计研发完成，并于2024-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种耐磨耐刮花的防辐射皮革在说明书摘要公布了：本实用新型属于皮革技术领域，具体涉及一种耐磨耐刮花的防辐射皮革，包括基布层，所述基布层的上端固定连接有皮革层，所述皮革层的上端固定连接有防辐射层，所述防辐射层的上端固定连接有耐磨层，所述耐磨层的上端固定连接有耐磨颗粒一。本实用新型通过舒适层、吸汗层等结构的设置，可提高皮革使用的舒适效果，在纳米银纬线、纳米银经线的作用下，不仅可提高皮革的耐撕扯性能，还可提高皮革的杀菌效果，通过防辐射层的设置，可提高皮革的防辐射效果，在耐磨层的作用下，可保证皮革的耐磨、防刮花效果，并在耐磨颗粒一、耐磨颗粒二的作用下，可提高皮革的耐磨特性。

本实用新型一种耐磨耐刮花的防辐射皮革在权利要求书中公布了：1.一种耐磨耐刮花的防辐射皮革，包括基布层1，其特征在于：所述基布层1的上端固定连接有皮革层2，所述皮革层2的上端固定连接有防辐射层3，所述防辐射层3的上端固定连接有耐磨层4，所述耐磨层4的上端固定连接有耐磨颗粒一5，所述耐磨层4的上端且位于耐磨颗粒一5之间固定连接有耐磨颗粒二6，所述基布层1的下端固定连接有纳米银经线7，所述基布层1的下端固定连接有纳米银纬线8，所述纳米银纬线8与纳米银经线7固定连接，所述基布层1的下端固定连接有吸汗层9，所述吸汗层9与纳米银纬线8接触，所述吸汗层9与纳米银经线7接触，所述吸汗层9的下端固定连接有舒适层10，所述基布层1为涤纶纤维材质，所述皮革层2为聚氨酯合成革材质，所述基布层1、皮革层2的厚度均为0.5mm，所述防辐射层3为陶瓷纤维编织成型，所述耐磨层4为尼龙材质，所述防辐射层3的厚度均为0.5mm，所述耐磨层4的厚度均为0.25mm，所述耐磨颗粒一5、耐磨颗粒二6均为聚四氟乙烯材质，所述耐磨颗粒一5的高度为0.5mm，所述耐磨颗粒二6的高度为0.25mm，所述纳米银经线7设置有多个，多个所述纳米银经线7在基布层1上纵向均匀分布，所述纳米银纬线8设置有多个，多个所述纳米银纬线8在基布层1上横向均分分布，所述吸汗层9为亚麻纤维材质，所述吸汗层9的厚度为0.5mm，所述舒适层10为纯棉材质，所述舒适层10的厚度为0.25mm。

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